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전기장과 전기력 예비 / 결과 레포트2025.01.211. 전하 분포 두 도체판에 전위차를 가했을 때, 도체판에 전하가 어떻게 분포하는지 설명하였다. 좌측 도체판은 음전하가, 우측 도체판은 양전하가 분포하게 되며, 두 도체판 사이에 전기장이 형성된다. 2. 전기장과 전기력 두 도체판 사이의 전기장 세기와 전위 분포를 설명하였다. 또한 알루미늄 박막을 이용하여 전기장 내에서 받는 힘을 관찰하고, 그 원리를 설명하였다. 3. 도체판 사이의 운동 두 도체판을 충분히 가깝게 만든 후 알루미늄 조각을 넣으면 왕복 운동이 발생하는데, 이는 도체판 사이의 전기장과 전하 이동에 의한 것으로 설명하였...2025.01.21
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현대 정보 저장 매체의 발달2025.05.121. 과거의 저장 매체 과거에는 펀치 카드, 하드 디스크, 콤팩트 디스크, 플로피 디스크 등의 저장 매체가 사용되었습니다. 펀치 카드는 직사각형 모양의 구멍을 뚫어 데이터를 저장하는 초기의 저장 매체였고, 하드 디스크는 회전하는 플래터에 자기 패턴으로 정보를 기록하는 저장 매체였습니다. 콤팩트 디스크는 알루미늄 박막에 레이저로 홈을 파 신호를 저장하는 광 디스크였으며, 플로피 디스크는 자성체로 덮인 원판이 들어있는 컴퓨터 보조 기억 장치였습니다. 2. 현대의 저장 매체 현대에는 USB 메모리와 클라우드 저장 시스템이 주로 사용되고 ...2025.05.12
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Alq3의 합성과 정제 pre-report2025.05.161. 유기 EL (Organic Electronicsluminescence) 유기물을 이용하여, 박막에 음극과 양극을 통하여 주입한 electron 과 hole이 재결합하여 exciton을 형성하고, 엑시톤으로부터 에너지에 의해 특정한 파장의 빛이 발생되는 현상을 이용한 것이다. 이러한 발광현상은 100V이상의 고전압이 소요되고 밝기, 수명이 매우 낮았다. 1987년, 발광층으로 Alq3, 전하수송층으로 TPD를 사용하여 10V이하에서 구동되고, 1%의 양자 효율을 갖으며 1000cd/m2의 휘도를 갖는 소자가 제작되었다. 2. A...2025.05.16
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금오공대 신소재 반도체공정 시험 정리2025.01.271. 반도체 재료 Ge / Si Ge은 최초로 반도체에 사용한 물질로 Si보다 캐리어의 mobility가 높아 성질이 우수하지만, 성능이 금방 저하된다. Ge의 산화는 Si보다 빨라 산화로 인해 물질과 성질의 변형으로 오랜 사용이 불가능하므로 외부 요인에 의한 영향이 큰 Ge보다 Si을 사용하기 시작한 것이다. Si은 Ge보다 안정성이 좋아 표면에서 산소와 결합하여 SiO2층을 형성하여 성능이 꾸준히 유지 된다는 점과 흔하다는 장점이 있다. 또한, 전하 운반자 제어가 쉬워 도핑하기가 쉬우며 산소와 질소에 안정적이므로 기판 물질로 잘...2025.01.27
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단열재의 종류에 대해 논하시오2025.01.211. 단열재의 정의 단열재는 열의 이동을 차단하거나 줄이는 역할을 하는 재료로, 주로 건축물의 벽, 바닥, 천장 등에 사용된다. 단열재는 열전도율이 낮아 열이 빠르게 전달되지 않도록 하며, 이를 통해 건축물 내부의 온도 변화를 최소화한다. 단열재는 다양한 형태와 재질로 제공되며, 그 목적에 따라 사용되는 위치와 방법도 다르다. 2. 단열재의 유형 단열재는 크게 섬유질 단열재, 발포 단열재, 반사형 단열재, 경질 보드형 단열재, 친환경 단열재 등 5가지 유형으로 나눌 수 있다. 각 유형은 열 차단 방식, 재료, 설치 방법에 따라 다르...2025.01.21
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Semiconductor Device and Design - 22025.05.101. Si and Ge characteristics 실리콘(Si)과 게르마늄(Ge)은 반도체 재료로 사용되는데, 실리콘은 밴드갭이 1.12eV로 게르마늄의 0.66eV보다 크고 최대 작동 온도가 150°C로 게르마늄의 100°C보다 높습니다. 또한 실리콘은 게르마늄보다 제조가 용이하고 가격이 10배 정도 저렴하여 집적회로(IC)의 주요 재료로 선택되었습니다. 2. Etching process principle and characteristic 습식 식각은 화학 용액을 사용하는 방식이고, 건식 식각은 플라즈마 가스를 사용하는 방식입니...2025.05.10