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유리기판의 표면처리2025.01.091. 분자간 인력 실험을 통해 Intermolecular Interaction을 알아보고, hydrophilic, hydrophobic 성질에 대해 학습합니다. 친수성(hydrophilic)은 물과 잘 섞이거나 용해되는 성질이며, 소수성(hydrophobic)은 물과 잘 섞이지 않는 성질입니다. 표면장력, 분자간 상호작용(수소결합, 쌍극자-쌍극자 인력, 분산력 등)에 대해 설명합니다. 2. 유리기판 표면처리 유리기판 표면을 hydrophilic하게 만든 후, OTS(octadecyltrichlorosilane)를 이용해 부분적으로 ...2025.01.09
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반도체 하드마스크 SOH 레포트2025.05.021. SOH (Spin-on Hardmasks) SOH는 패터닝 공정에서 반도체 미세 패턴 구현을 위한 보조재료입니다. gap을 채우고 평탄화를 강화하여 내에칭성을 강화해야하는 특성을 요구합니다. SOH는 반도체 회로 패턴 형성 시 기존의 CVD 방식이 아닌 spin coating 방식으로 막을 형성하는 미세 패턴 형성 재료로, 미세 선폭의 패턴 정확도를 구현합니다. 2. PR MASK와 HARD MASK 비교 미세패턴을 구현하려면 PR MASK의 폭이 점점 줄어들어야 합니다. PR MASK의 가로에 대한 세로의 비율이 특정 값보다...2025.05.02
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반도체 8대 공정 정리2025.01.161. 웨이퍼 제조 반도체 웨이퍼 제조 공정은 다결정 실리콘을 석영 도가니에 채워 넣는 폴리실리콘 스태킹 공정부터 시작하여, 잉곳 성장, 와이어 쏘잉, 에지 그라인딩, 래핑, 식각, 폴리싱 등 총 15개의 세부 공정으로 이루어져 있다. 이 과정을 통해 실리콘 웨이퍼를 제조하고 청정도와 평탄도를 확보한다. 2. 산화 공정 산화 공정은 실리콘 웨이퍼 표면에 산화막을 형성하는 공정으로, 열산화 방식과 화학적 증착 방식이 있다. 열산화 공정은 웨이퍼 클리닝, 열산화, 두께 검사 등의 단계로 진행된다. 산화막은 소자 간 절연, 게이트 절연막,...2025.01.16
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분자간 인력과 표면장력2025.01.021. 표면장력 표면장력은 액체 표면을 단위 면적만큼 증가시킬 때 필요한 힘이다. 이는 분자간 상호작용이 수면과 표면에서 다르기 때문에 생기는 현상이다. 물 분자들은 수소 결합과 쌍극자-쌍극자 인력에 의해 결합하고 있다. 표면 아래의 물 분자들은 서로 모든 방향에서 끌어당기지만, 표면의 물 분자들은 아래로만 당기는 힘을 받게 된다. 물질은 표면적이 최소일 때 안정성을 띠는 경향이 있으므로, 물도 표면의 물 분자들을 밑으로 최대한 끌어당긴다. 2. 모세관 작용 모세관 작용은 부착력과 응집력의 공존에 의해 발생한다. 부착력은 표면이 물질...2025.01.02
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PDMS를 이용한 미세 접촉 인쇄 실험 결과보고서2025.05.011. PDMS를 이용한 미세 접촉 인쇄 PDMS를 도장으로 사용하여 미세 접촉 인쇄를 수행한 실험 결과를 보고합니다. 도장이 묻은 부분이 동전 모양으로 나타난 이유는 PDMS 도장에 묻은 알케인 싸이올과 슬라이드 글라스에 코팅된 은 사이에 안정한 결합이 형성되었고, 알케인 싸이올의 긴 소수성 사슬들이 분자 간 상호작용으로 인해 조밀하게 자기 조립되어 소수성 표면을 형성했기 때문입니다. 실험에서 오차가 발생한 이유는 레진과 가교제의 비율 조절 실패와 은 코팅 과정에서의 문제로 인한 것으로 분석됩니다. 1. PDMS를 이용한 미세 접촉...2025.05.01
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단국대 고분자공학실험및설계2 <Inkjet Printing (IJP)> 레포트2025.01.221. 잉크젯 프린팅 (Inkjet Printing) 잉크젯 프린팅은 잉크 방울을 토출시켜 기판 위에 패터닝하는 공정방법입니다. 잉크젯 헤드의 노즐을 통해 수십 피코 리터 이하의 OLED 잉크를 분사하여 OLED 디스플레이 픽셀을 만드는 기술입니다. 비접촉 방식으로 패턴을 구현하기 때문에 기판의 오염을 최소화할 수 있고 선택적 패터닝이 가능하므로 RGB 패턴을 분리하여 제작하는 것이 가능하며 고해상도의 소자 구현이 가능합니다. 또한 기존의 증착공정이나 스핀 코팅 등의 방법을 통해서는 구현하기 어려운 대면적의 패널 생산이 가능합니다. ...2025.01.22
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[A+] 단국대 고분자공학실험및설계2 <포토리소그래피> 레포트2025.01.221. 포토리소그래피 포토리소그래피(Photolithography)는 원하는 회로설계를 유리판 위에 금속패턴으로 만들어 놓은 포토마스크라는 원판에 빛을 조사하여 생기는 패턴을 웨이퍼 상에 전사시켜 복사하는 기술이며, 반도체 및 디스플레이의 제조 공정에서 설계된 패턴을 웨이퍼 상에 형성하는 가장 중요한 공정이다. 포토리소그래피 공정은 측정을 포함하여 기본 8단계로 이루어진다. 2. 포토레지스트 포토레지스트(PR)는 빛에 반응해 특성이 변하는 화학물질로, 디스플레이에서는 TFT에 미세한 회로를 형성하는 포토리소그래피 공정에 사용된다. 포...2025.01.22
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2-2. AMOLED Full Device - Polymer report (A+)2025.05.121. AMOLED 소자 및 공정실험 AMOLED 소자 및 공정실험 캡스톤 디자인 프로젝트에 대한 보고서입니다. 실험 목표는 Spin Coater를 이용한 고분자 기반 OLED(PLED) 제작 및 특성 평가입니다. 실험 이론으로는 UVO Treatment, Surface Energy, 저분자 물질과 고분자 물질의 비교 등이 다루어졌습니다. 실험 방법에는 ITO 전극 패터닝, UV 조사, PEDOT:PSS 및 PFO 물질의 Spin Coating, LiF와 Al 증착 등의 과정이 포함되어 있습니다. 실험 결과로는 J-V, L-V, CE...2025.05.12
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1-3 AMOLED Full Device - Small Molecule report (A+)2025.05.121. AMOLED 소자 및 공정 실험 AMOLED 소자 제작 및 특성 평가를 위한 실험을 수행했습니다. 저분자 기반 OLED 소자를 제작하고 전기적, 광학적 특성을 분석했습니다. 실험에 사용된 주요 재료로는 PEDOT:PSS, NPBTCTA, CBP, Ir(ppy)3, TPBI 등이 있습니다. 실험 방법으로는 ITO 전극 패터닝, 기판 세척, 유기물 증착, 금속 증착 등의 공정을 거쳤습니다. 실험 결과를 통해 전류-전압, 휘도-전압, 효율 특성 등을 확인했으며, 저분자 OLED와 고분자 OLED의 성능을 비교 분석했습니다. 2. 유...2025.05.12
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AMOLED 소자 및 공정 실험 보고서2025.05.121. AMOLED 소자 제작 실험 목표는 spin coater를 이용한 고분자 기반 OLED 제작 및 특성 평가입니다. 실험 장비로는 Thermal evaporation, Spin coater, CS-2000(측정장비)가 사용되었습니다. 실험 과정에서는 ITO 전극 패터닝, 기판 세척, UVO 처리, PEDOT:PSS, PFO, LiF, Al 증착 등의 단계를 거쳤습니다. 실험 결과 분석을 통해 PFO 발광층의 두께 및 구조에 따른 휘도 특성 차이, UVO 처리에 따른 표면 에너지 변화와 균일성 향상 등을 확인할 수 있었습니다. 2...2025.05.12
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