포토공정(Photo-lithography)이란? , 과정

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목차

1. 포토공정
2. 포토공정 과정

본문내용

포토공정(Photo-lithography) 이란?
-반도체 회로를 그리기 시작하는 과정으로, 준비된 웨이퍼 위 빛에 반응하는 감광성 고분자물질인 PR 또는 LOR(Lift off Resist)을 얇게 코팅한 후 원하는 패턴의 마스크를 올려놓은 뒤 빛을 쏘여 원하는 패턴을 형성하는 과정

※ 감광성 – 빛에 반응하여 분자구조가 바뀜
PR (Photo Resist)
Positive PR
Negative PR

.포토공정
1. Clean Wafer (Wafer preparation)
포토공정에 앞서 Wafer Cleaning / Dehydration Baking / Wafer Prime의 3가지 공정 진행

Dehydration Baking – 기판표면에 남아있는 잔여 수분을 제거하기 위해 진행 / 웨이퍼 위에 수분이 남아 있으면 기름 성분인 PR과의 접착을 방해하기 때문에 이를 제거하는 과정

Wafer Prime – PR과 기판의 접착성을 향상시키기 위해 계면활성제를 도포해주는 과정 (Spin Coating으로 진행)

참고 자료

없음