photolithography
- 최초 등록일
- 2011.06.28
- 최종 저작일
- 2011.06
- 3페이지/ MS 워드
- 가격 1,000원
소개글
포토리소그래피의 전체적인 공정과정과 원리로 구성되어있습니다
목차
Ⅰ. Introduction
Ⅱ. Theory
Ⅲ. 참고문헌
본문내용
Photolithography
Ⅰ. Introduction
극히 미세하고 복잡한 전자회로를 패턴의 마스크를 이용하여 반도체 기판에 패턴을 그려 집적회로를 만드는 기술. 사진 기술을 응용한 것이어서 포토리소그래피라고도 한다. 감광성 수지를 도포한 기판에 포토마스크(원판)를 통해 자외선을 조사하면 포토마스크에 새겨진 IC의 패턴이 포토레지스트에 전사된다. 1m보다 미세한 패턴을 형성하려면 자외선으로는 한계가 있어 X선이나 전자빔의 응용도 연구되고 있다. 모든 공정 step이 각종 particle에 대해 매우 취약하고, 이로 인한 pattern 불량이 전체 panel의 불량을 유발하므로, 청정한 환경과 재료 및 장비의 관리가 보다 중요한 공정이며, 향후 TFT 제작공정의 고정밀, 대면적화에 따라서 그 중요성이 더욱 커지는 공정이다.
참고 자료
http://pltus.net/entry/Photolithography
http://me.cau.ac.kr/~microsys/kor
네이버 백과사전