포토리소그래피 실험 결과 레포트
- 최초 등록일
- 2019.11.06
- 최종 저작일
- 2019.03
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목차
1. 실험 제목
2. 실험 목적
3. 실험
본문내용
포토리소그래피란?
반도체 웨이퍼 위에 감광 성질이 있는 포토레지스트(Photoresist)를 얇게 바른 후, 원하는 마스크 패턴을 올려놓고 빛을 가해 사진을 찍는 것과 같은 방법으로 회로를 형성하는 것.
a) 실험방법
① 웨이퍼에 적당량의 HMDS를 올리고 스핀코팅한다.
② PR을 웨이퍼에 올리고 스핀코팅 후 가열시킨다.
③ 웨이퍼를 마스크 패턴을 찍는 기기에 올리고 진공을 잡은 후 패턴을 찍는다.
④ Develop 현상을 한다.
⑤ 현미경으로 패턴을 관찰한다.
b) 용어 정리 및 원리
HMDS란 hexamethyldisilazane을 나타내고, 웨이퍼의 표면을 소수성으로 바꾸어 주기 위해 사용합니다. 왜냐하면, Photo 공정에는 photoresist가 사용되는데, photoresist는 유기용매가 대부분을 차지하는 액이다.
참고 자료
없음