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Photolithography and Moore’s law

*하*
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최초 등록일
2020.01.08
최종 저작일
2019.11
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"Photolithography and Moore’s law"에 대한 내용입니다.

목차

없음

본문내용

무어의 법칙은 반도체 transistor가 2년마다 2배로 증가한다는 반도체 사업의 혁신적 성장 속도를 예측한 법칙으로 인텔 창업자인 고든 무어가 만든 법칙입니다. 하지만 이 법칙은 한계를 맞고 조만간 죽음을 맞이한 것으로 알려져 있습니다. 왜냐하면 회로의 밀도를 무한대로 높일 수 없기 때문입니다. 밀도를 높이다 보면 트랜지스터를 원자 단위까지 좁히게 되고 이렇게 되면 전자 간 간섭이 생겨 더 이상의 밀도를 높일 수 없게 됩니다.

이를 해결하기 위해서는 천상 전자를 직접 조작할 수 있는 양자컴퓨터를 이용해야하는데, 아직까지 이를 실현할 수 있는 양자컴퓨터는 실용화되지 않았습니다. 따라서 반도체 제조 기술을 통해 최대한 트랜지스터를 좁히는 기술 개발이 이루어지고 있습니다.

반도체를 만드는 공정은 초미세 회로를 웨이퍼 위에 매우 얇고 강력한 레이저 빛으로 그리는 포토(photo) 공정을 거치는 것이다. 웨이퍼 위에 사진을 찍어내듯이 전자 회로를 그린다고 하여 '포토'라는 이름이 붙여졌습니다.

참고 자료

From private conversations with the author.Google Scholar
Moore, G.E., “Progress in Digital Electronics,” Technical Digest of the Int’l Electron Devices Meeting, IEEE Press, 1975Google Scholar
Moore, G.E., “Cramming more components into integrated circuits,” Electronics magazine, April 1965. A copy of the original draft he submitted can be found at https://www.chiphistory.org/20-moore-s-law-original-draft-1965Google Scholar
Koomey, J., et al, “Implications of Historical Trends in the Electrical Efficiency of Computing”, IEEE Annals of the History of Computing, March 29, 2010Google Scholar
An additional constraint that Gordon himself put on it at the first NTRS roadmap meeting.Google Scholar
Dennard, R.H., et al, “Design of ion-implanted MOSFET’s with very small physical dimensions” IEEE Journal of Solid State Circuits, October 1974 10.1109/JSSC.1974.1050511Google Scholar
Attributed to George Gilder by Carl Shapiro and Hal R. Varian in “Information Rules,” Harvard Business Press, 1999Google Scholar
Ruell, H., “Major Trends Shaping the Microelectronics Industry,” SEMI ISS Europe, May 18-20, 1992Google Scholar
Chang, M., Hennessy, J.L., “Morris Chang: An Emphasis on Excellence,” Stanford eCorner, May 13, 2014Google Scholar
Mead, C., Courtland, R., “Q&A: Carver Mead,” spectrum.ieee.org, Apr. 15, 2015Google Scholar
Hutcheson, G.D., Profitable Solutions to Lithography, SEMICON/West Technical Program, 1982Google Scholar
Hutcheson, G.D., “Is Lithography Affordable?” VLSI Research, 2006Google Scholar
Hutcheson, G.D., “Litho Tool Costs Out of Hand?” Chip Making Markets, VLSI Research, 2000Google Scholar
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