"Atomic Layer Deposition" 검색결과 181-192 / 192건

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  [박막공정] 박막공정

  1 박막의 정의 - thickness of a few Å up to several microns - deposited atom by atom - usually different materials ... conservation - engineering and design flexibility 3 thin film, thick film, and bulk - thin film : a layer ... built up on a solid support by controlled condensation of the individual atomic, molecular, ionic species

  시험자료 | 5페이지 | 3,000원 | 등록일 2004.04.18 | 수정일 2014.06.30

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  [전자재료실험]MOS캐패시터

  (산화공정 -100A, 200A, 300A) 2) ZrO₂를 조건에 맞게 ALD(atomic layer deposition) 한다. 3) 포토공정 ① 실리콘 표면처리(HMDS) ② ... 전도형의 변화된 영역을 반전층(invertion layer)이라하고 도전성을 갖는 영역을 채널(channel, 이 경우는 n채널)이라 한다. n형 Si를 쓰면 p채널이 생긴다. ... (Thermal evaporation), 레이저분자빔증착법 (L-MBE, Laser Molecular Beam Epitaxy), 펄스레이저증착법 (PLD, Pulsed Laser Deposition

  리포트 | 8페이지 | 1,500원 | 등록일 2006.06.20

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  반도체공정(CVD)

  Silicon Nitride deposition oxide mask final passivation layer (moisture, Na+ 의 장벽) 3SiH4(g) + 4NH3(g) ... Silicon Dioxide passivation layer - deposition on Al SiH4(g) + O2(g) → SiO2(s) + 2H2(g) isolation before ... Boundary layer flow 5.

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.10.13

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  [재료공학실험] 박막증착실험(진공, pvd, cvd)

  Layer Chemical Vapor Deposition) 아래 그림(a)는 ALCVD반응기의 구성도를 간단히 나타낸 것이다. ... plasma-enhanced CVD, photochemical CVD , laser-induced CVD, electron-beam assisted CVD로 분류될 수 있다. 2.2 ALCVD(Atomic ... 증착표면 근처에서는 기체흐름이 가열되고, 점성에 의해 속도가 떨어지며, 조성의 변화가 생기기 때문에 열, 운동량, 화학조성의 boundary layer가 형성된다.

  리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.11.15

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  표면공학실험

  의 IT분야 소재 소개 및 원리 나노튜브 지금까지 반도체 공정에 국한돼 사용되던 단원자층 증착(Atomic Layer Deposition : ALD)을 국내 연구진이 나노 구조물 제작에 ... ALD란 기존의 화학기상증착법(Chemical Vapor Deposition : CVD)이 반응물들을 동시에 주입해 성장시키는 것과 달리, 분리 공급되는 각 반응물질의 표면 포화반응을

  리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.11.08

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  [latch up]Well formation in cmos

  Gate Poly Deposition -. N+ Poly Implant (HC Phos) -. N+ Poly Anneal (900℃, 20min) -. ... Hot Carrier Effects *.Impact Ionization 고체격자 내에서 Electric field에 의해서 가속된 electron과 atom이 충돌하여 electron-hole ... STI Liner Oxide – Glue Layer로서 SiO2와 Si의 접착 용이,STI Coner에서 발생되는 Leakage 방지 -. STI FILL – 소자간의 절연 -.

  리포트 | 19페이지 | 2,000원 | 등록일 2005.12.11

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  나노공학의 현재와 미래

  탄소나노튜브의 우수한 전기전도도와 기계적 강도를 이용하면 SPM(Scanning Probe Microscope), STM(Scanning Tunneling Microscopy) 및 AFM(Atomic

  리포트 | 14페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.08.21

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  [박막 공정] 박막공정(스퍼터링, CVD)

  이때 W > 0 ▶ Stranski - Krastonov Mode : layer plus island growth mode 1 첫째열 또는 몇 개의 later가 완전 smooth 성장하고 ... Excellent film uniformity, particularly over large areas 2 Surface smoothness and thickness control 3 Deposition ... virtually any material can be introduced onto a gas discharge or sputtered from the solidstate gas atom

  시험자료 | 5페이지 | 6,900원 | 등록일 2004.06.15 | 수정일 2014.06.30

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  반도체에 사용되는 용어정리

  DEPOSITION 6. PACKAGE 7. ... 고감도 (AES에 의한 표면 불순뭉 원소의 검출감도는, 역시 1원자층(~10 atom/cm)의 0.1%, 즉 10ML이다.) ... Reticle 하나의 Device layer의 Pattern이 Chrome으로 형성된 석영(quartz) 기판 Mask를 말한다.

  리포트 | 18페이지 | 무료 | 등록일 2000.11.29

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  [물리] PZT

  증착표면 근처에서는 기체흐름이 가열되고, 점성에 의해 속도가 떨어지며, 조성의 { 변화가 생기기 때문에 열, 운동량, 화학조성의 boundary layer가 형성된다. ... 본 연구에서는 원자력현미경(Atomic Force Microscpoy)을 이용하여 두께 1000Å이하의 얇은 PZT 박막의 domian 구조를 관측하고 거시적인 grain 구조와 미시적인 ... 5V (A/cm2) 10-7 10-9 10-7 Process temperature(℃) 500∼600 750∼850 650∼700 About CVD (Chemical Vapor Deposition

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.06.22

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  흡착원자의 거동에 대한 연구동향과 미래

  또한 이 연구를 좀 더 깊게 응용하여 기존의 PVD & CVD와는 다른 ALD(Atomic Layer Deposition)이라는 원자 층 증착기술을 탄생시켰다.

  논문 | 5페이지 | 3,000원 | 등록일 2011.11.16

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  [천문학] 화성의 비밀 - 탐사선 오디세이

  Mars Odyssey의 영상 Ganges Chasma Landslide (1 April 2002) Layered Deposits on the floor of Ganges Chasma ... 2003년 6월 1일 - 도착예정일 : 2003년12월 26일 - 질량 : 1,042 kilograms (2,297 pounds) - 보유 장비 : Energetic Neutral Atoms

  리포트 | 29페이지 | 1,000원 | 등록일 2002.05.26

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