특허출원공개제도와 심사청구제도

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"특허출원공개제도와 심사청구제도"에 대한 내용입니다.

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출원공개제도
출원인의 신청에 의하여 또는 특허출원 후 1년 6개월 경과 후 특허청에 계속 중인 출원을 심사와 관계없이 일반에 공개하는 제도
• 중복투자 및 중복 출원 방지, 기술 이용 기회 제공
• 출원 공개의 대상은 출원 공개 시점에 특허청에 계속 중인 특허출원
• 출원 중인 발명을 제3자 침해 시 조기 공개 신청, 경고장 발송, 실시료 청구
• 출원공개 후 서면경고 이후 보상금청구권 행사
• 국제출원

우선심사제도
• 특허출원인 아닌 자가 업으로 출원된 발명을 실시하는 경우
• 긴급처리가 필요하다고 인정되는 경우(대통령령이 정하는 특허출원)
- 방위산업분야의 특허출원
- 공해방지에 유용한 특허출원
- 수출촉진에 직접 관련된 특허출원
- 국가 또는 지방자치단체의 직무에 관한 특허출원
- 벤처기업의 확인을 받은 기업의 특허출원

참고 자료

없음

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