Photolithography를 이용한 patterning

소개글

Photolithography를 이용한 로고 patterning에 대한 발표자료입니다.

목차

Ⅰ) Object
Ⅱ) Theory
Ⅲ) Equipment & Reagent
Ⅳ) Procedure

본문내용

Photolithography :
특정한 화학약품(Photo resist)이 빛을 받으면 화학반응을 일으켜서 성질이 변화하는 원리를 이용
얻고자 하는 pattern의 mask를 사용하여 빛 을 선택적으로 PR에 조사함으로써 mask의 pattern과 동일한 pattern을 형성시키는 공정

V Photolithography에서 표면에 pattern을 코팅하는데
사용되는 light-sensitive material
V 반도체, LCD, 정밀가공금속 등에 널리 이용
V 빛 에너지에 의해 분해 등이 일어나 그 용해 특성이
변하는 물질
V Photo Resist에 원하는 pattern이 그려져 있는
Mask를 놓고 exposure 하면 빛을 받은 부위가 변화
V Developer에 처리하면 exposure된 부분 또는 그렇
지 않은 부분만 녹아 Mask의 pattern이 PR로 구현

<중 략>

V Expose된 PR의 soluble region을 제거시키기 위해
Developer를 분사하여 용해
V Insoluble region에 영향을 최소화하기 위해
짧은 development time 필요

V Developer를 IPA(Isopropyl Alcohol)로 씻어줌
V 약한 흐름의 공기나 질소기체를 불어주어 건조
Tip. Rinse 과정중 white film 형성시
under develop 이 발생했다는 증거이므로 다시한번 Develop 과정과 Rinse & Dry 과정을 반복

V PR의 종류에 따라 필요시 시행(SU-8에서 불필요)
V 남아있는 solvent의 증발
V PR이 wafer surface에 밀착을 향상 시킴
V PR을 굳히기 위해
V Etching과정에서 pattern의 변형 방지

참고 자료

-http://www.cnf.cornell.edu/cnf_process_photo_resists.html#hmds
-http://www.wfu.edu/~ucerkb/Nan242/L15-Photolithography.pdf
-http://www.ecse.rpi.edu/~schubert/Course-Teachingmodules/A036-The
photolithography-process.pdf
-http://www.kps.or.kr/storage/webzine_uploadfiles/1507_article.pdf
-http://engineering.tufts.edu/microfab/index_files/SOP/SU-8%20Processing.pdf
-공업재료가공학/PEARSON/Serope Kalpakjian, Steven R. Schmid/Chpt13.7.1
-http://www.cleanroom.byu.edu/su8.phtml
-http://www.wafer-bumping.com/documents/pdf/Plasma%
20assisted%20oxidation%20anodization%20and%20nitridation%
20of%20silicon.pdf
-http://www.aligner.co.kr/board/?board=products&category=6&no=15
-http://www.chemicalbook.com/ProductMSDSDetailCB2429933_EN.htm