박막증착 장비의 종류 및 원리와 GaN LED의 이해

소개글

◎리포트 내용 및 목표

- 박막과 박막증착 장비의 종류, 원리에 대해 이한해다.
- 반도체와 홀효과(Hall Effect)의 관계를 이해한다.
- GaN LED가 무엇이며 용도가 어떠한지 이해한다.

목차

◎리포트 내용 및 목표
◎박막증착 장비의 종류
- 박막증착의 방법
A. 물리적 기상 증착법(Physical Vapour Deposition)
B. 화학적 기상 증착법(Chemical vapor deposition)
a. CVD의 종류와 장비
① 금속유기물증착법 (MOCVD)
② 직접 액체 주입 (DLI-CVD)
③ 플라즈마 화학 기상 증착법 (PECVD)
◎Hall 효과 (Hall Effect)
◎GaN LED의 용도
- LED
- GaN LED
- GaN LED의 용도

본문내용

◎리포트 내용 및 목표
- 박막과 박막증착 장비의 종류, 원리에 대해 이한해다.
- 반도체와 홀효과(Hall Effect)의 관계를 이해한다.
- GaN LED가 무엇이며 용도가 어떠한지 이해한다.
◎박막증착 장비의 종류(Chemical vapor deposition 중심)
- 박막
두께가 단원자층에 상당하는 0.1㎚에서 10㎛정도의 두께를 가진 기판 상에 만들어진 고체 막을 지칭한다. 이와 같은 박막은 형성과정이 보통의 덩어리재료(Bulk)와 다르기 때문에, 구조차이에 의한 막고유의특성을 보유하게 되고 두께가 얇아짐에 따른 형상효과를 나타내게 된다. 즉, 기존의 Bulk와는 전혀 새로운 전기적, 자기적 및 광학적 효과를 나타내며, 이런 현상을 이용하여 반도체나 최첨단 전자재료를 제작할 수 있기 때문에 그 중요성과 실용성이 크다. 박막은 반도체, LCD Monitor, 나노겔 입자, 섬유, 유기반도체, 광학 렌즈 등 활용도가 증가하고 있다.
- 박막증착의 방법
A. 물리적 기상 증착법(Physical Vapour Deposition)

물리적 기상 증착법이란 고진공 조건에서 화학반응이 일어나지 않는 상태로 단일 금속의 증기상을 피처리물 표면에 코팅시키는 것을 의미하였으나. 최근에는 증기상과 송입한 가스와의 화학적 반응에 의해 생성되는 복합물을 코팅시키는 것도 포함시키고 있다. PVD는 다른 박막증착법들에 비해 피복율이 낮은 편이나.

참고 자료

없음