박막특성분석
- 최초 등록일
- 2012.12.24
- 최종 저작일
- 2012.04
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소개글
박막 특성 분석 방법에 관한 자료입니다.
목차
1. Introduction
박막 특성 분석의 의의
박막 특성 분석의 방법
박막 특성 분석 기기 소개 및 시장 동향
2. Subject
박막 측정 기술의 분류
3. Conclusion
요약 및 정리
본문내용
The observation that the number of transistors that can be placed on an integrated circuit has doubled every two years.
- Intel 공동 창업자, Gordon Moore (1965年) -
반도체 메모리의 집적도는 1년에
‘2배’씩 증가한다.
- 前 삼성전자 반도체 부문 사장, 황창규 (2002年) -
박막 (thin film, 搏膜)
Ⅰ. Introduction
-박막 특성 분석의 의의
-박막 특성 분석의 방법
-박막 특성 분석 기기
-박막 관련 분야 시장 동향
Ⅱ. Subject
Ⅲ. Conclusion
박막 특성 분석의 의미에 대한 고찰
매우 미세한 두께를 가지는 층
그 응용분야는 무궁무진!
박막이란 단순히 미세한 층에만 그치는 것이 아니라
인간의 삶을, 인간이 사는 방식을 바꿀 수도 있는 것
박막 특성 분석 방법
기계적 방법
현미경적 방법
광학적 방법
광학적 방법
Ellipsometer
Spectral Reflectometer
<중 략>
창업자인 고든 무어가 1965년 발표한 무어의 법칙은 반도체 집적회로의 성능이 2년마다 2배로 증가한다는 것이다.
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자의 기술총괄 사장이었던 황창규가 제시한 이론으로 2002년 미국에서 열린 국제반도체회로 학술회의 에서 발표하였는데 무어의 법칙과 달리 1년에 두 배씩 늘어난다는 이론이었는데 그는 이에 맞는 제품을 개발하여 이론을 입증하는데 성공하였다.
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박막이란 모재 혹은 기질의 표면에 형성시킨 매우 미세한 두께를 가지는 층으로서
일반적으로 두께가 수십 옴스트롬에서 수 마이크로 미터의 범위를 말한다.
이들 박막을 특정한 용도로 응용하기 위해서는 박막의 두께, 조성, 거칠기, 및 기타 물리적 광학적인 특성을 알 필요가 있다.
특히 최근에 반도체 소자의 집적도를 높이기 위해 기판 위에 초박막을 다층으로 형성하는 것이 일반적 추세인데 이 고집적 반도체 소자를 개발하기 위해서는 특성에 커다란 영향을
주는 인자인 박막의 두께를 포함한 막의 물성을 정확하게 제어해야 한다.
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용되고 있는 박막 측정 장비로써
비접촉식, 반사량에 근거하여 두께를 측정
첫번째 사진 수동형 박막 분석기계
두번째 사진 자동형 박막 분석 기계 옆에 있는 디스플레이에서 출력이 가능
세번째 사진 한번의 측정으로 일정 범위의 여러지점의 두께를 정밀하게 측정할 수 있는 측정 시스템
참고 자료
없음