sputtering결과보고서

소개글

재료공정실습 태양전지 DSSC 셀제작 실습 A뿔 보고서

목차

1. 실습 과정

2. 실습 결과

3. 고 찰

참고 문헌

본문내용

1. 실습 과정
① 실습에 필요한 재료 및 기구를 준비한다.

(FTO Glass, Sputtering 장비, 세정제, 초음파 세척기, 알파텝 측정기, 증류수, 아세톤, 에탄올, 저항 측정기, 칫솔, 비커, 증착기판, 진공테이프 등)

② 세척제와 칫솔을 이용하여 FTO Glass를 약 10분간 세척한다.

③ 세척된 FTO Glass를 아세톤, 에탄올, 증류수(DIO2)에 순서대로 각각 10분씩 넣어 초음파 세척기를 이용하여 세척을 하고 질소바람으로 건조를 시킨다.

④ 진공 테이프를 이용하여 sputtering 부위만 제외하고 Patterning 작업을 한다.

⑤ 증착기판을 챔버에 넣고 챔버를 닫은 후 중진공(torr), 고진공(torr) 순으로 진공상태를 만든다.

⑥ Ar가스를 30SCCM을 맞추어 투입하고 10mtorr, 300℃로 purging작업을 한다.

⑦ Presputtering을 실시한 후 TiO2 증착을 23분간 실시하고 Pd 증착을 100W에서 30초, 다시 TiO2 증착을 23분간 한다.

⑧ 장비를 끄고 증착기판을 꺼낸 후 진공테이프를 제거하고 알파스텝을 이용하여 증착부위의 두께를 측정한다.

⑨ XRD 회절분석기를 이용하여 증착부위의 물질을 확인한다.

참고 자료

1. http://www.eetkorea.com/ART_8800543509_480703_NT_89279e25.HTM. 전자엔지니어. 눈 앞에 터진 마르지 않는 유전: 태양 에너지.
2. http://plasma.kisti.re.kr/webs/intro/plasma_is.jsp. 한국과학기술정보연구원. 플라즈마물성데이터베이스.
3. http://dssc.kist.re.kr/. 한국과학기술연구원 태양전지 연구센터.
4. 정재인, 양지훈, 박영희, 이경황, 김현구. 「다이아몬드 상 탄소박막의 조도에 미치는 Si Interlayer의 영향」. RIST. 2007.
5. 이종무; 이강욱; 박선후. 「SiH4 환원에 의한 Selective CVD-W막 특성에 대한 증착시간과 압력의 효과」. 한국재료학회지. 1991.