[금속] cvd와 pvd

*정*

최초 등록일: 2001.12.06
최종 저작일: 2001.12; 5페이지/ 한컴오피스; 가격 1,000원

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건식도금은 CVD(chemical vapor deposition)과 PVD(physical vapor deposition)으루 크게 분류할 수 있다. 건식도금기술은 소재(基板:기판에 엷은 금속 또는 금속화합물을 피복시킨다는 의미에서 박막(薄膜)제조기술(thin film technology)이라는 말을 많이 사용하고 있다.
이 중 CVD 법은 피복하고자 하는 표면 근처에서 막의 재질을 가진 가스를 가열하여 기판과 반응 분해 석출시키는 방법이다. PVD 법은 진공 중에서 피복(도금)하고자 하는 재료를 증발시켜서 소재표면에 응착시키는 방법을 말한다.

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