전자빔(Electron Beam Lithography)

*정*

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최초 등록일: 2009.07.31
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전자빔 리소그래피의 기술, 특징, 장치, 공정, 기술현황에 대해 조사한 자료입니다.

본문내용

1. 전자빔 리소그래피의 기술
▪ 전자빔 리소그래피 기술은 전자선 감광제를 도포한 시료면에 전자빔을 조사하여 감광제재를 구성하는 고분자를 결합 또는 절단하여 시료 면상에 감광제 패턴을 형성하는 기술이다

▪ 1950년대에 주사형 전자현미경의 기술을 기초로 출발했으며, 최근에는 반도체소자, 특히 초 LSI의 제조라인으로 사용되어있는 축소투영노광장치(스텝퍼)용의 레티클(확대mask)의 제작에 있어 핵심적인 기술이다

2. 전자빔 리소그래피의 장점
▪ 장점

① 높은 안정도를 갖는 전자 광학계와 진공중의 레이저측정에
의해서 빔편향계의 자기교정이 가능하다

② 미세패턴 리소그래피가 레이저 측정 분해능에 가까운 정밀도로 가능하다

③ 웨이퍼기판상에 직접 리소그래피 함으로써 다른 공정처리에 의해서 형성한 패턴과 연계하여 고정밀도의 미세패턴 형성이 가능하다

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