RF Magnetron Sputtering

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RF Magnetron Sputtering의 원리 및

RF Magnetron Sputtering equipment, RF Magnetron Sputtering 작동방법에

대해 파워포인트로 만든 파일입니다.

본문내용

RF Magnetron Sputtering 장점

Glow discharge

SPUTTERING

RF Sputtering

Magnetron Sputtering

RF Magnetron Sputtering

장점
낮은 Ar 압력에서 plasma가 유지
금속 이외에도 비금속, 절연체, 산화물, 유전체 등의 sputtering이 가능
13.56MHz의 고주파 전원 사용
다양한 재료의 박막제조 가능
전자를 타겟 주위로 묶어 기판의 손상, 가열을 줄임

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없음

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