EBeam의 경우 본질적으로 sensitivity limitation이 없음. throughput이 한정되어 있지만, 효율적인 솔루션으로 인정받음(SEM은 전자가 가속되어 표면에 입사하기 ... 찾아냄 그림 Applied Materials SEM 검사 결과 샘플 o 리소그래피 관련 - 차세대 리소그래피로 EUV, MEB ML(Multiple E-Beam Maskless lithography
이러한 노력들에 NGL (Next Generation Lithography) 라고 불리는 새로운 리소그래피들이 있는데 아직까지는 대부분이 그다지 만족스럽지 못한 기술들 이다. ... 리소그래피는 10 nm 이하의 분해능을 가지고 있으며, SCALPEL(SCattering with Angular Limitation Projection Electron-beam Lithography