이미징 실습 레포트 ( 포토 레지스트, 철 인화법, 중크롬산염 젤라틴)

소개글

이미지 실습 레포트 입니다. 참고하셔서 하시면 좋을거 같아요.

목차

1. 실험 제목
2. 실험 목적
3. 실험 특징
4. 실험 재료
5. 실험 방법
6. 실험 이론
7. 실험 결과
8. 고 찰

본문내용

실험 제목
포토레지스트 실습 (Photoresist) , 철 인화법 , 중크롬산 젤라틴

실험 목적
• 실리콘 웨이퍼를 잘라본다.
• 스핀 코팅법을 이용해 포토레지스트를 웨이퍼에 도포해본다.
• 마스크를 이용해 노광을 줘본다.
• Bake(pre-,post-) 과정을 해본다.
• 현상과 수세과정을 해본다.
• 현미경을 통해 만들어진 패턴을 관찰한다.

실험 특징
• 식각(Lithography)기술이다.
• 빛을 통해 아주 미세한 패턴을 만들 수 있다.
• 반도체 공정에서 도선을 까는데 사용된다.
• 마치 화학작용에서 촉매처럼 사용되어 (실제 촉매x) 반도체에 도선을 까는데 도움을 주는 공정이다.
• 네거티브 형과 포지티브 형이 있다.

실험 재료
• 실리콘 웨이퍼 , 아세톤
• 다이아몬드 칼
• 노볼락수지 + 디아조 화합물 유도체로 구성된 PAC(Photo-Active-Compounds)
• TMAH(현상액)
• 스포이드 , 스핀코터 , 베이크 기계 , 핀셋 , 마스크, 전자 현미경

참고 자료

없음