pvd와 cvd

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목차

PVD (물리증착법 : Physical Vapor Deposition)
PVD에 의한 코팅방법
PVD에 의한 코팅법 종류
PVD에 의한 코팅법의 방법 및 원리
CVD (Chemical Vapor Deposition)

본문내용

PVD (물리증착법 : Physical Vapor Deposition)
PVD에 의한 코팅방법
물리 증착법 (Physical Vapor Deposition)은 코팅될 물질이 기체 상태로 변환되어 물리적 작용에 의해 모재위에 피복되는 방법이다.
PVD에 의한 코팅법 종류
PVD 코팅법에는 Evaporation, Sputtering, Ion Plating이 있다.
PVD에 의한 코팅법의 방법 및 원리
Evaporation Process
코팅될 물질이 열이나 전자 beam 등에 의해서 증발되어 직선적으로 운동하다가 모재에 충돌하면서 증착되는 방법
Sputtering Process
Plasma 내의 양이온이 전장에 의해 가속되어 코팅될 물질(target)의 표면을 강하게 치면 target의 원자가 운동에너지를 가지고 튀어 나와 모재의 표면에 충돌하면서 증착되는 방법
Ion Plating Process
코팅될 물질을 어떤 방법에 의해 기화시키고, 이 기화된 원자를 Plasma 내에서 이온화 시킨 다음, 모재에 음의 전압을 걸어주면 이온화된 원자가 가속되어 모재의 표면을 때리면서 증착되는 방법
이러한 코팅 방법들 가운데 Ion Plating 에 의해서 가장 우수한 코팅 부착력을 얻을 수 있으므로 공구에 대한 코팅 방법으로 가장 유리한 것으로 알려져 있다. 그러나 공구에 적절한 수준의 코팅을 얻기 위해서는 코팅 장치의 고진공 문제, design, 모재의 적합한 표면상태, 코팅 조업의 software 등이 중요합니다.
PVD에 해당하는 증착법에는 스퍼터링 (Sputtering), 전자빔증착법 (E-beam evaporation),

참고 자료

金屬工學實驗, 大韓金屬學會, 1989年2月5日 p.388 ～ 404
분말冶金學 大韓金屬學會
분말야금소결기구, 이동희, 김문일
http://asan3.sch.ac.kr/~seonhwa/분말야금1장.htm
http://asan3.sch.ac.kr/~seonhwa/분말야금8장.htm
http://mse.snu.ac.kr/mse/Course/199902/under/445.417.htm
http://w3.kunsan.ac.kr/~material/txt/power/power-xtra.doc