[A+레포트] 마이크로리소그래피 실험 Microlithography

목차

1. 실험 목표
2. 실험 이론 및 배경
3. 실험 기구 및 시약
4. 실험 방법 및 순서

본문내용

1. 실험 목표 Objective of Experiment
Photolithography를 이용하여 마이크로미터 패턴을 형성하는 실험을 수행함으로써 Lithography의 원리 를 이해한다. 또한, 마이크로 패턴을 형성할 때 사용되는 여러 가지 화학 물질의 쓰임새, 화학 반응, 그리 고 광원과 해상도의 상관 관계 등을 이해한다.

2. 실험 이론 및 배경 Theory and Backgrounds
⦁해상도 (resolution)
광원으로부터 나온 빛은 마스크의 패턴을 통과하면서 회절현상을 일으킨다. 마스크를 지나온 빛은 0차 광, 1차광, 2차광, ..., n차광으로 회절 된다. 마스크의 이미지를 구현하기 위해서는 광학계를 통해 최소한 회절 된 빛의 1차광까지는 다시 모을 수 있어야 한다. 광학계가 회절된 빛을 받아들일 수 있는 각도를 수 치화한 것을 개구수 (numerical aperture, N.A.)라 정의한다. 패턴의 크기가 작을수록 회절되는 각도는 커 지기 때문에 광학계의 개구수에 따라서 1차광을 받아들일 수 있는 패턴의 크기가 한정되게 된다. 따라서 해상도 (resolution)는 최소한 1차광을 받아들일 수 있는 최소 선폭의 크기를 의미하며, 해상도가 좋을수록 더 작은 패턴들을 구현할 수 있다.
그림 7-1 개구수 (numerical aperture)
⦁개구수 (numerical aperture, N.A)
해상도를 향상시키면서도 공정 효율을 높이려면 높은 개구수를 가지면서 동시에 노광 면적 (field area) 가 커야한다.
광원으로는 UV 영역에서 light output이 있는 수은 램프가 주로 쓰인다. 우세한 방출선의 파장으로는 365 nm (i-line), 405 nm (h-line), 436 nm (g-line) 등이 있다. 광원의 파장이 짧으면 짧을수록 미세한 패턴 을 형성할 수 있다.

참고 자료

없음