thermal evaporation법을 이용한 박막의 제조 레포트.

소개글

thermal evaporation법을 이용한 박막의 제조 레포트.

목차

1 목적
2 이론
3.실험장치 및 시약
4. 실험방법
5. 결과 및 토의

본문내용

1 목적
Thermal Evaporation법을 사용하여 발광박막의 제조를 통하여 박막재료 제조 공정의 이해를 돕는다.

2 이론
박막이란, 두께가 단원자층에 상당하는 0.1nm에서 10μm정도의 두께를 가진 기판 상에 만들어진 고체 막으로 정의된다.이와 같은 박막은 형성과정이 보통의 덩어리재료(Bulk)와 다르기 때문에, 구조차이에 의한 막 고유의 특성을 보유하게 되고 두께가 얇아짐에 따른 형상효과를 나타내게 된다. 즉, 기존의 Bulk와는 전혀 새로운 전기적, 자기적 및 광학적 효과를 나타내며, 이런 현상을 이용하여 각종 전기소자, 집적회로, 광학부품 등 여러 응용분야에 이용되고 있다.
산업분야에 사용되는 박막기술은 수평 및 수직자기 기록매체, 광자기 기록매체, 박막헤드와 같은 정보기억용 매체 제작에 이용되며, LSI용 도전 및 절연 박막과 같은 마이크로 일렉트로닉스(M.E)용 박막재료 및 기능성 박막재료 제작에 사용되고 있다. 이처럼 박막재료는 고도첨단기술을 담당하는 기본적 기술의 하나로서 이후에도 이 기술의 중요성이 한층 더 심화되고 있다.

2-1.박막제작방법
박막을 제작하는 방법으로는 수많은 방식이 제안되고 있으며, 각 방식들은 서로 특징 상 큰 차이점을 나타내고 있다. 따라서, 증착되는 박막의 특성과 용도 등에 맞는 최적의 박막제작법을 선택하는 것이 중요하다. 그림 에 각종 박막제작법을 나타내었다. 박막을 증착시키는 방법으로 크게 물리적인 방법(PVD, Physical Vapor Deposition)과 화학적인 방법(CVD, Chemical Vapor deposition)으로 대별된다. 또한, PVD법은 진공 증착법과 스퍼터법, 이온플레이팅법으로 나눌 수 있다. 그 중 진공 증착법은 진공(10-4Torr) 중에서 고체 또는 액체를 가열하여 분자 또는 원자로 분해한 후 기판표면상에 응축시키는 방법으로, 장치 구성이 간단하고, 매우 많은 물질에 쉽게 적용이 가능

참고 자료

없음