PVD 방법에 의한 TiN/TiSi2-bilayer 형성

(주)코리아스칼라

최초 등록일: 2016.04.02
최종 저작일: 1998.12; 8페이지/ 어도비 PDF; 가격 4,000원

다운로드

장바구니

상세정보
자료후기 (0)
자료문의 (0)
판매자정보

* 본 문서는 배포용으로 복사 및 편집이 불가합니다.

서지정보

ㆍ발행기관 : 한국재료학회 ㆍ수록지정보 : 한국재료학회지 / 8권 / 12호
ㆍ저자명 : 최치규, 강민성, 김덕수, 이광만, 황찬용, 서경수, 이정용, 김건호

한국어 초록

Si 기판을 실온과 600˚C로 유지하면서 동시 증착 방법으로 (Ti+2Si)를 증착한 후 N2 분위기에서 Ti를 증발시켜 TiN(300Å)/(Ti+2Si, 300Å)/Si(100) 구조의 시료를 제작한 다음 초고진공에서 in-situ로 열처리하여 양질의 TiN/TiSi2-bilayer를 형성하였다 열처리 온도가 700˚C 이상에서 (111) texture 구조를 가지면서 화학 양론적으로 Ti0.5N0.5인 박막과 C54-TiSi2박막이 형성되었다. TiN/C54-TiSi2/Si (100)구조의 계면은 응집 현상이 없이 평활하였으며, C54-TiSi2상은 에피택셜 성장되었다. TiN/TiSi2-이중구조막의 면저항은 열처리 온도에 따라 감소하였으며, 700˚C 이상의 열처리 온도에서는 면저항 값이 2.5Ω/cm2 였다.

참고 자료

없음

"한국재료학회지"의 다른 논문

VIM에 의해 제조된 고주파 유도경화 베어링강의 특성에 관한 연구6페이지

RF 스퍼터링에 의해 MgO/Si 기판위에 증착된 Pb(Zr, Ti)O3 강유전체 박막의 특성연구6페이지

니켈계 초합금 CMSX 6 단결정 주조조직의 석출물구조 분석5페이지

깁사이트로부터 니켈피착 감마알루미나의 제조 및 특성7페이지

2단계 증착법으로 제조된 Pb(Zr,Ti)O3 박막의 특성6페이지

더보기 (5/10)

판매자 정보

코리아스칼라는 정직과 신뢰를 기반으로 학술단체 발전에 도움을 드리고자 하는 기업입니다. 본 사는 본 사가 자체 개발한 솔루션을 통하여 보다 효율적인 업무 관리 뿐만 아니라, 학술지의 데이터베이스화, ARCHIVE를 돕습니다. 본 사의 One Stop Service를 통해 국제적인 학술단체로 함께 도약 할 수 있다고 믿습니다.

주의사항

환불정책

해피캠퍼스는 구매자와 판매자 모두가 만족하는 서비스가 되도록 노력하고 있으며, 아래의 4가지 자료환불 조건을 꼭 확인해주시기 바랍니다.

파일오류	중복자료	저작권 없음	설명과 실제 내용 불일치
파일의 다운로드가 제대로 되지 않거나 파일형식에 맞는 프로그램으로 정상 작동하지 않는 경우	다른 자료와 70% 이상 내용이 일치하는 경우 (중복임을 확인할 수 있는 근거 필요함)	인터넷의 다른 사이트, 연구기관, 학교, 서적 등의 자료를 도용한 경우	자료의 설명과 실제 자료의 내용이 일치하지 않는 경우