목 차 포토공정포토공정 과정 포토공정 ( Photo-lithography ) 이란 ? ... 포토공정 (Photo-lithography) 1. ... Clean Wafer (Wafer preparation) 포토공정에 앞서 Wafer Cleaning / Dehydration Baking / Wafer Prime 의 3 가지 공정
< (특집) 포토공정 심화 정리15편. EUV Photo공정 > 이번시간은 포토공정의 최신기술인 EUV 포토공정에 소개해드리겠습니다. ? ... 앞선 글들에서 Resolution(분해능) 값을 낮추기 위한, 더 미세한 Pattern을 형성하기 위해 다양한 방법으로 포토공정을 시도한 내용을 말씀드렸습니다. ? ... * EUV 공정의 장점 ?
반도체 미세회로 공정이 진화하면서 45 ㎚ 이하의 회로공정에서 주목받고 있는 것이 액침 노광(Liquid Immersion Lithography)기술이다. ... 반도체 미세 공정인 액침 공정에 대해 알아보자!|케빈조 https://m.blog.naver.com/PostView.nhn? ... 그러므로 더 미세한 공정을 할 수 있게 된다. 반도체 미세회로 공정은 더 짧은 파장으로 더 미세한 회로를 새기는 과정의 연속이다.
반도체 공정기술의 기본요소가 되는 박막증착 포토리소그래피 , 공정에 대하여 실험해본다.제 2 . 장 이론2-1. 기판 세정2-1-1. ... 장 실험목적반도체 공정기술은 고집적도의 메모리나 아날로그 논리형 , 집적회로 제작에 필요한 기초기술이며 다양한 소자 마이크로 ( , 머신 디스플레이 의) 제조에 적용되며 그 응용범위가
< (특집) 포토공정 심화 정리1편. ... 포토공정 아래 그림과 같이 크게 구성됩니다. ? ... 공정 Process 개략도& Wafer Priming > 오늘 첫 시간은 '포토공정 Overview & Wafer Priming(Wafer 노광준비단계)'를 소개하겠습니다. ?
< (특집) 포토공정 심화 정리6편. Track System이란 > 이번시간은 Track System를 주제로 다뤄보겠습니다. ? ... Track System은 Photolithography 공정 중, 세정 / 노광 / 검사 공정을 제외한 나머지를 진행할 수 있는 시스템입니다. ? ... - 용액 공정 설비 : Coater unit / Developer unit - 열 공정 설비 : AD unit / HP unit / CP unit - 구동부 및 기타 : Transfer
< (특집) 포토공정 심화 정리9편. Stepper의 설비구조 > 이번시간은 Stepper의 설비구조를 Unit별 역할에 대해서 하나씩 알아보겠습니다. ? ... (특정 파장) 파장을 여러개 쓰면 공정 조건을 다 만족시켜야 해서 Control이 쉽지 않습니다. 1) i / g-line 광원 (365nm / 448nm 이상의 파장) - 수은 lamp
< 포토공정 심화 정리11편. PR(Photoresist)에대한 이해 > 이번시간은 '포토공정에 사용되는 소재 PR, 포토레지스트에 대해서 알아보겠습니다. ? ... 빛을 받아 반도체 회로를 새기는 특수 고분자물질이다. 400여 개 반도체 공정 가운데 30여 개에 포토레지스트를 사용합니다. ? ? 이제 PR에 대해서 자세히 알아볼까요?? ? ... : Photoresist Performance Factor 1) 해상도(Resolution) / 2) 점착력(Adhesion) / 3) 광 민감성(Expose rate) /4) 공정