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"MOCVD" 검색결과 161-180 / 353건

  • 한글파일 GaN의 식각
    CVD에 해당하는 증착법에는 MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapor Deposition), HVPE (Hydride Vapor Phase Epitaxy) 등이
    리포트 | 10페이지 | 2,000원 | 등록일 2014.05.22
  • 파워포인트파일 Alq3의 발광 박막의 제조
    thermal evaporation( 열 증착 ) e-beam evaporation(e-beam 증착 ) Sputtering CVD(chemical vapor deposition) MOCVD
    리포트 | 16페이지 | 4,000원 | 등록일 2011.05.28
  • 한글파일 CIS,CIGS
    MOCVD법으로 성장시킨 CIGS박막의가격 Heterojunction 의 단점 - Heterojunction 의 이해 l Spike발생 ? ?Ec = χ2 ? ... 산화아연은MOCVD와 스퍼터링법이 주로 사용되고 있으나, CIGS 태양전지의 창(window)층인 산화아연 박막 성장에는 스퍼터링 방법이 주로 사용되고 있다. 그림 1. ... 반면에 MOCVD 또는 CVD 방법은 이들 두 방법에 비해 진공장치 내부의 오염이 적고, 불소(F)를 포함하는 가스를 이용한 플라스마 클리닝 방법을 이용하면 손쉽게 오염 물질을 제거할
    리포트 | 18페이지 | 15,000원 | 등록일 2010.12.22 | 수정일 2022.08.12
  • 한글파일 사파이어 웨이퍼
    단결정 성장된 사파이어는 MOCVD에서 GaN를 증착하기에 적합한 크기와 모양으로 가공단계를 거친다. ... 사파이어 단결정에 Ⅲ-Ⅴ족 화합물 반도체를 증착하는 장비인 MOCVD는 4인치 기판을 양산하기에 적합하도록 되어있다.
    리포트 | 49페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.02.12
  • 파워포인트파일 CIGS박막태양전지
    또는 절연체를 증착할 수 있음 Ar과 다른 혼합가스를 사용하여 반응을 수반한 화합물 증착이 가능 넓은 면적의 박막 제작 CIGS의 박막기술(국내 기술동향) 유기금속 기상성장 법(MOCVD ... → CIGS에서는 적절한 전구체 선택과 공정기술 개발이 이루어 지지 않아 성공은 제한적 → 2003년 CIGS에 증착 (국내 대학에서 개발) CIGS의 박막기술(국내 기술동향) MOCVD장점 ... 재현성이 뛰어남, 대형박막 쉽게 제작 → 동시증착과 스퍼터링법에 비하여 박막성장속도 빠름 → 가열된 기판에만 증착물이 선택적으로 증착되어 시료의 효율적인 사용, 진공장치 오염 최소화 MOCVD
    리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.11.11
  • 한글파일 반도체공정 (Deposition & Evaluation)
    전형적인 CVD 반응은 대부분의 MOCVD 반응은 600~1000℃범위에서 1 Torr에서의 상압 범위에서 반응한다. ... 다른 MOCVD 재료로는 와 같은 3-5족의 화합물이며 precursor로는 dimethyl cadmium(DMCd), dimethyl telluride(DMTe), dimethyl
    리포트 | 39페이지 | 4,500원 | 등록일 2007.01.27
  • 파워포인트파일 LED Procsee
    LED PROCESS Air Shower InGot 성장 + SUB Wafer 제작 EPI 성장 (MOCVD, LPE, VPE) CHIP Process Package Process
    리포트 | 54페이지 | 1,000원 | 등록일 2013.01.09
  • 파워포인트파일 LED 제조 공정
    SYSTEM LED 제조 공정 ■ Epi 공정 Schematic Diagram of MOCVD Reactor LED 제조 공정 ■ Low Temperature Buffer를 사용하여 ... 결정재료가 포함된 반응가스를 기판위로 흘리면서 열에 의한 분해 와 반응을 통해 결정을 성장 → 반응가스의 형태에 따라 HVPE, MOVPE 등으로 분류 LED 제조 공정 ■ 성장방법 MOCVD ... Fabricaton LED 제조 공정 LED 제조 공정 LED 제조 공정 ■ Blue chip Structure LED 제조 공정 ■ Epi 공정 LED 제조 공정 ■ Epi 공정 MOCVD
    리포트 | 46페이지 | 5,000원 | 등록일 2009.06.08
  • 한글파일 [신소재]네마틱의 특징
    . - MOVPE(Metalorganic Vapor Phase Epitaxy) 는 다른 말로 OMVPE(Organometallic VPE), MOCVD(Metalorganic CVD
    리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.12.28
  • 한글파일 화합물 반도체
    이중에서 가장 많이 활용되는 것은 MOCVD법이다. ※ MOCVD법은 III족 원료에 유기금속소스(MO源)를 사용하는 기상성장법이다. ... 현재 생산되고 있는 질화물 반도체 발광디바이스는 거의 모두 MOCVD법에 의해서 성장시킨 것이다. ... MOCVD장치는 광 또는 전자디바이스를 망 물질이 기판에 도달해서 흡착할 때 까지 열역학적으로 평형 상태를 이루어 주어 결정 분자가 가지는 열역학적 에너지를 안정화시켜 생장이 이루어지는
    리포트 | 11페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.06.11
  • 한글파일 양자점 분자구조의 특성 및 소자응용
    소개할 InGaAs/InGaAsP/InP 양자점 분자구조는 InP (001) 기판위에서 유기금속화학기상증착법(metal-organic chemical vapor deposition, MOCVD
    리포트 | 11페이지 | 7,500원 | 등록일 2013.10.17 | 수정일 2019.06.19
  • 파워포인트파일 PVD
    Evaporation Sol-Gel Plating CVD Sputtering Electro plating Electroless -plating CVD APCVD LPCVD PECVD MOCVD
    리포트 | 77페이지 | 3,000원 | 등록일 2012.12.24
  • 파워포인트파일 화학적 기상 증착법 (Chemical Vapor Deposition) 7~8분 분량의 핵심적인 내용만 담은 잘 정리된 PPT자료
    1200 ℃ - Mass Products - High Purity Thin Film - influenced by various factors  Metal-Organic CVD(MOCVD ... 0.13㎛ (’01~’04) 0.1㎛(’03~’05 ) 300mm Integrated Process Single Wafer Process Low temperature process MOCVD
    리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.11.17
  • 한글파일 thin file공정
    수천 두께로 특정 기판 상에 올리는 일련의 과정을 지칭하며 이러한 방법으로는 Thermal evaporation, E-beam evaporation, Sputtering, CVD, MOCVD
    리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.12.04
  • 한글파일 증착기를 이용한 반도체 공정
    ) MOCVD는 Chamber 안에서 가열된 기판 표면에 증기압이 높은 금속 유기 화합물 증기를 보내어 박막을 만드는 방법입니다. ... MOCVD는 step coverage가 우수하고, 기판이나 결정 표면에 손상이 없다는 장점을 가지고 있고 비교적 증착속도가 빨라서 공정시간을 단축시킬 수 있습니다. ... 이렇게 Vapor Deposition) CVD증착법에는 MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapor Deposition), PECVD 등이 있습니다.
    리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.09.21
  • 파워포인트파일 LED 개요 및 제조 공정
    성장시킨 Wafer를 가지고 P,N층에 전극형성 을 한 후 Chip Size별로 절단 가공 후 단일 Chip 상태로 분리 후 전기적 특성을 파악함 Chip (Fab + 후공정) -.MOCVD ... GaN Epi-Wafer 제조 공정 u-GaN 2um Surface inspection XRD (002), (102) GaN wafers or Sapphire wafers 1차 MOCVD ... PL analysis Mg doping condition confirm MQW thickness confirm 2차 MOCVD LED structure on substrate Surface
    리포트 | 29페이지 | 5,000원 | 등록일 2008.07.24 | 수정일 2016.11.16
  • 한글파일 ALD(Atomic _badtags deposition)
    MOCVD ALD MOCVD Source Delivery Separated Pulses Continuous Mixture Step Coverage Excellent step -coverage
    리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.06.29
  • 한글파일 진공 및 박막의 전제척인 개념 및 박막의 3가지 성장모델, CVD & PVD 비교 정리
    예를 들어, GaN의 경우에는 MOCVD를 이용할 때 TMG라는 Ga에 methyl기를 붙인 Ga(CH3)3 물질을 수송기체에 실어보내고 한 쪽에서는 암모니아 (NH3)를 불어넣어서
    리포트 | 8페이지 | 6,500원 | 등록일 2013.04.22 | 수정일 2022.11.21
  • 한글파일 Sol-Gel법 (MOD, Spin Coating)
    원료로 모두 유기 금속을 사용한 MOCVD 수소화물을 사용한 MOCVD에서는 부가반응을 피하는 것이 곤란하고 위에 기술한 바와 같이 감압계로 한다든가 원료공급 노즐에 연구를 집중시킬 ... Manasevit등은 이들 원료를 사용하여 MOCVD로 최초로 절연물 기판상에 ZnSe와 ZnS 다결정의 성장 시켰다. ... ZnSe, ZnS의 MOCVD는 최근에 Ⅱ족 원료에 아연의 유기금속인 디메틸, 아연(DMZn) 또는 디메틸 아연(DEZn)을 사용하고 Ⅵ족 원료로 Se 및 S의 수소화물인 셀륨화수소
    리포트 | 10페이지 | 2,000원 | 등록일 2004.05.02
  • 한글파일 [전자공학][공학][초전도이론][제어시스템][반도체][다이오드]전자공학의 교과과정, 전자공학과 초전도이론, 전자공학과 제어시스템, 전자공학과 반도체, 전자공학과 다이오드 분석
    그러나 넓은 면적의 박막을 양산하기 위해서 유기금속화학증착법(MOCVD)이 꾸준히 연구되고 있다.
    리포트 | 11페이지 | 5,000원 | 등록일 2013.03.25
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