ALD ppt 발표 자료

목차

1. ALD 공정 개요
2. Enhanced ALD
3. ALD 최근 기술 동향
4. 참고문헌

본문내용

ALD (Atomic Layer Deposition)
다양한 기재(substrate)위에 금속 전구체와 반응 가스를 교차적으로 주입
Self-limiting surface reaction에 의해 박막을 LBL형태로 성장 시키는 진공기상증착 방법

특징
Self-limiting surface reaction
-> 복잡한 3차원 구조 기재 위에서도 매우 균일한 두께의 박막을 얻을 수 있다.
No gas phase reactions

참고 자료

반도체용 ALD 공정 장비의 진공 챔버 내부 유동에 대한 PIV 측정/ 허동현/ 서울과학기술대학교/ 2020
UV-enhanced atomic layer deposition of Al2O3 thin films at low temperature for gas-diffusion barriers/
https://slidetodoc.com/advances-in-atomic-layer-deposition-of-semiconductor-device-2/
Spatial Atomic Layer Deposition (SALD), an emerging tool for energy materials/ Comptes Rendus Physique/ 2017/ 391-400
Area-Selective Atomic Layer Deposition of SiO2 Using Acetylacetone as a Chemoselective Inhibitor in an ABC-Type Cycle/ Alfredo Mameli/ ACS NANO/2017
https://news.skhynix.co.kr/post/ald-using-atoms
https://repository.hanyang.ac.kr/bitstream/20.500.11754/105923/1/UVenhanced%20atomic%20layer%20deposition%20of%20Al2O3%20thin%20films%20at%20low%20temperature%20for%20gas-%20diffusion%20barriers.pdf
a_20160623_B4510_s04775_622.pdf
yong by 김용효 (prezi.com)