디스플레이공학 ppt 요약(MOS 동작 원리, 농도 단위, 반도체 공정에서 사용되는 산,염기, 반도체 제조 공정에서 금속의 불순물, Water Cleaning SC-1 solution, 평균 자유 행정과 진공 범위와의 관계)

소개글

"디스플레이공학 ppt 요약(MOS 동작 원리, 농도 단위, 반도체 공정에서 사용되는 산,염기, 반도체 제조 공정에서 금속의 불순물, Water Cleaning SC-1 solution, 평균 자유 행정과 진공 범위와의 관계)"에 대한 내용입니다.

목차

1. MOS의 동작 원리
2. ppm, ppb, ppt
3. 반도체 공정에서 사용되는 산과 염기
4. 반도체 제조 공정에서 금속의 불순물
5. Water Cleaning: SC-1 solution
6. 평균 자유 행정과 진공 범위와의 관계
7. 출처

본문내용

MOS의 동작 원리
아래부터 Silicon(Body), SiO2(Oxide), Metal층의 구조로, MOS라고 불린다.
Gate에 전압을 걸어, 발생하는 전기장에 의해 전자나 양공을 흐르게 하는 원리이다.

참고 자료

p형 mos의 전자 흐름과정 그림 출처: https://m.blog.naver.com/applepop/220926446937
MOS 단면 그림 출처 : https://m.blog.naver.com/PostView.naver?isHttpsRedirect=true&blogId=s_lsi&logNo=140137060486
최성재, 나노 반도체 소자 설계 및 제조공정 기술, 자유아카데미, 2021, p85~94
Ian Mills, “The Units ppm, ppb, and ppt”, De Gruyter, 2014.05.27
최성재, 나노 반도체 소자 설계 및 제조공정 기술, 자유아카데미, 2021, p116, p117
최성재, 나노 반도체 소자 설계 및 제조공정 기술, 자유아카데미, 2021, p133
반도체융합기술연구원, 반도체 공정 기초 실습 교육, 경북대학교, 2022.04, p147
한국산업에너지절감협회, 압축공기의 압력과 부피, 온도 그림 및 내용 출처 : https://kiesa.kr/referencebook/?q=YToyOntzOjEyOiJrZXl3b3JkX3R5cGUiO3M6MzoiYWxsIjtzOjQ6InBhZ2UiO2k6MTM7fQ%3D%3D&bmode=view&idx=5781839&t=board
최성재, 나노 반도체 소자 설계 및 제조공정 기술, 자유아카데미, 2021, p159~161