REPORT ? 과 목 명 : 반도체공정 ? 학 과 : 전자공학과 ? 담당교수 : ? 이 름 : ? 학 번 : ? 제 출 일 : Ⅰ. CVD A. 일반 CVD 1. 상압 CVD 가. 장비의 개요 a. 제조사 - SCHMID b. 규격 - 3.3 x 1.9 x 2.3 m..
Aluminum nitride, a compound semiconductor, has a Wurtzite structure; good material properties such as high thermal conductivity, great electric cond..
고체 시료 핵자기공명 spectroscopy 조사 1. NMR의 의의와 원리 NMR은 원자핵의 특성인 quantum mechanical magnetic을 기본으로 한 물리 현상이다. 또한 NMR (nuclear magnetic resonance)은 UV, IR, Mas..
재료 공학 실험 예비레포트 Sputtering... 제출일 : 2006년 4월 13일 ◎ Sputtering 의 종류 1. 직류 스퍼터링 (DC Sputtering) 스퍼터링 방법은 스퍼터링 가스를 진공상태인 chamber에 주입하여 증착시키고자 하는 타겟물질과 충돌시..
PVD [Physical Vapor Deposition] 란? 드라이 플레이팅이라고도 한다. 진공 중에 금속을 기화시켜 기화된 금속 원자가 산화하지 않은 채, 방해물 없이 피도금물에 도금이 된다. ① 진공 증착법, ② 스패터링법, ③ 이온 플레이팅법 으로 분류된다. P..
1. Sputtering 이란? 고체의 표면에 고에너지의 입자를 충돌시키면, 그 고체표면의 원자·분자가 그러한 고에너지 입자와 운동량을 교환하여 표면에서 밖으로 튀어나오게 된다. 이 현상을 스퍼터링(sputtering) 현상이라고 부른다. 이 현상이 1842년 Grov..
학사학위논문 Reactive Magnetron Sputtering에 의한 ZnO 박막증착 Deposition of ZnO thin film by reactive magnetron sputtering K대학교 화학공학부 화학공학전공 아 무 개?홍 길 동 2009. 2...
1. 실험제목 : Reduction chlorobenzaldehyde of NaBH4 2. 실험목표 : 유기합성에서 중요한 산화환원반응 중 환원반응을 이해하고 환원반응실험을 통해 기초지식과 실험방법을 익히고 그에 대한 원리를 이해한다. 3. 실험준비 (1) 초자- Ro..
실험제목: 때려내기에 의한 박막 증착 실험목적: 박막 성장 방법 중의 하나인 '때려내기(sputtering)에 의한 박막 증착' 방법의 원리를 이해하고, sputtering 장비를 이용하여 실리콘 기판에 Cu 박막을 증착한다 이론 1. 박막 형성 기술 박막을 기판 위에..
◎ 박막과 박막 증착 최근에는 덩어리재료(Bulk materials)에는 없거나, 혹은 나타나기 어려운 물성을 얻기 위하여 덩어리 재료인 기판(Substrate)위에 박막(Thin Film)을 성장시키고 이용하고자 하는 연구가 큰 관심을 끌고 있다. 박막의 응용은 이용..
목 차 1. 진공 증착(Vacuum Evaporation) 1) 진공 증착의 원리 및 과정 2) 관련 설비 가. 진공실 나. 진공펌프 장치 다. 압력 측정장치 라. 피처리물 지지장치 마. 증발원 3) 피복층 조직 4) 진공 증착의 특징 5) 진공 증착의 응용 2. 화..
> 1. 유비쿼터스의 개념 2. 유비쿼터스의 유래 3. 유비쿼터스의 5대 핵심기술 (1) 센서 (2) 프로세스 기술 (3) 커뮤니케이션 기술 (4) 인터페이스 기술 (5) 보안기술 및 프라이버시 4. 유비쿼터스 구현 기술 (1) IPv6 (2) RFID (3) 휴대 단..
