[박막공학실험]이온스퍼터링과 탄소코팅

소개글

"[박막공학실험]이온스퍼터링과 탄소코팅"에 대한 내용입니다.

목차

1. 실험 목적
2. 실험 이론 및 원리
3. 실험 방법
4. 실험 결과

본문내용

1. 실험 목적
1.1. 실리퍼 웨이퍼 기판 위에 진공증착법을 이용한 탄소코팅과 이온 스퍼트링법을 이용한 금코팅을 성막함에 있어 진공증착과 이온스퍼터링의 원리에 대해 알아보고, 횟수와 시간 변수에 따른 박막의 형태와 두께와의 상관관계를 알아봄에 있다.

2. 실험 이론 및 원리
2.1. 박막
박막이란 진공증착이나 형상화 등을 이용하여 절연화 된 유리, 세라믹 또는 반도체 등의 기판 위에 형성된 매우 얇은 (0.1㎚～10㎛)피막 또는 피막을 만드는 기술. 기판위에 수 ㎛이하 두께로 자체적으로 독립적인 기능을 가지고 있는 층. 근대에는 5㎛이하를 박막이라 하고 그 이상을 후막이라 한다.

2.2. 진공증착법
인위적으로 제어한 진공 중에서 박막하려는 대상 물질을 가열하여 증발시켜 그 증기를 적당면 위에 부착시키는 방법으로 이렇게 만들어지는 막을 증착막이라고 한다. 장치구성이 간다하고, 많은 물질에 쉽게 적용할 수 있으며, 물성연구에 적합하나 접착이 약할 때가 많고, 성질에 대한 재현성이 나쁘다.

그림 1에 진공증착이 일어나는 원리와 구조를 간단히 나타내었다. 챔버는 펌프를 사용하여 높은 진공상태를 유지시키고, 아래쪽에는 증발시킬 재료인 소스(증발원)을 설치한다. 그리고 위쪽에는 기판을 장착한다. 보통 초기 진공도는 torr 이하로 고진공을 만들고, 전기적 저항을 주거나 전자빔 등으로 소스를 가열한다. 고진공 상태에서 소스를 원하는 고온까지 가열하면, 소스는 기체화 되어 증발하면서 챔버내로 분산되어 날라가게 된다. 이렇게 증발된 기체원자 및 분자들은 기판까지 날아가고, 기판은 기체에 비하여 매우 낮은 온도를 가지고 있기 떄문에 기판 표면에 기체원자들이 응축되어 모이면서 박막이 만들어 지게 된다.

참고 자료

없음