(특집) 포토공정 심화 정리9편. Stepper의 설비구조
- 최초 등록일
- 2021.08.16
- 최종 저작일
- 2021.05
- 5페이지/
한컴오피스
- 가격 2,000원
소개글
(특집) 포토공정 심화 정리9편. Stepper의 설비구조 파일입니다.
총 19편으로 구성되어 있으며 해당 포토공정 공부를 통해 반도체 회사에 입사할 수 있었습니다.
반도체업계 취업준비를 하고 있다면 큰 도움이 되실거에요!
목차
1. Light Source
2. Shutter / Filter
3. Condenser Lens / Fly's Eye Lens / Projection Lens / Colimater Lens
4. Wafer stage
본문내용
* Light Source : 광원, 노광하는 Energy source를 의미합니다.
사용하고자 하는 파장 대역에 따라 다른 Source를 사용합니다. (크게 수은 LAMP/LASER )
- 파장 대역은 단파장을 사용합니다.(특정 파장) 파장을 여러개 쓰면 공정 조건을 다 만족시켜야 해서 Control이 쉽지 않습니다.
1) i / g-line 광원 (365nm / 448nm 이상의 파장)
- 수은 lamp 사용 (1.5 ~ 2.5kW)
- Power : Intensity로 결정
- High Intensity → Uniformity 저하
- Broad-band light (다파장 빛 사용)
2) DUV 광원 (특정 파장만 나오게 설계되어 있음)
- KrF / ArF Laser source 사용 (10W / 1kHz ) ( 248nm / 195nm )
- Power : Pulse로 결정
- 직교 1회당 2~4% Intensity droop
- 특정 파장 발생
* Shutter : 광원으로부터 방출된 빛을 비노광 시간 동안 차단하는 역할
* Filter : 광원에서 발생한 다파장을 프리즘 원리를 이용하여 파장별로 분리, 얻고자하는 단일 파장 통과
1) i / g-line 광원 (365nm / 448nm 이상의 파장)
- 비노광 시간 동안 항상 Shutter 장착
- 장기간 사용시 Shutter에 Damage 발생 → 주기적 교환 필요
- Hg lamp : Broad-band light → Filter를 통하여 필요한 파장을 선택적으로 통과
참고 자료
없음
