나노재료공학_기말 REPORT

소개글

나노재료공학_기말_REPORT

목차

1. 광학 리소그래피가 100nm이하의 구조물을 제작하기 힘든 이유를 설명 하시오.
2. Homogeneous하게 박막을 제작할 수 있는 방법의 이름을 모두 열거 하시오.
3. 분자성 박막과 일반적인 성장박막은 어떤 차이점이 있습니까?
4. SAM박막의 제작법의 원리를 설명 하시오.
5. LB법에 있어서 다층박막의 형성법과 LBL의 다층 박막의 형성법은 원리적으로 어떤 차이가 있고, 이들 두 방법에 있어서 박막의 원료(재료)는 어떻게 다른가요?
6. LB법에 있어서 분자의 밀도가 아주 높은 막을 만드는 방법을 설명하시오.
7. PDMS와 SAM기술을 이용하면 분자성 나노 박막(배향성이 제어된 막)을 원하는 패턴모양으로 만들 수 있다고 합니다. 어떻게 하면 될까요?
8. 박막의 응용분야(OLED, Solar cell, Fuel Cell 등)에 대하여 조사하시오.

본문내용

1. 광학 리소그래피가 100nm이하의 구조물을 제작하기 힘든 이유를 설명 하시오.
Lithography란? LSI에서의 패턴형성을 위한 미세 가공 기술. 포토에칭을 하는 경우 그림과 같이 원화를 직접 웨이퍼 상에 축소 투영하여 노출하는 방법으로, 웨이퍼를 얹은 X-Y 이동대를 조금씩 움직여서 자동 초점 기구와 컴퓨터에 의한 위치 결정에 의해 순차 같은 패턴을 소부해 간다. 해상도 1㎛ 정도까지의 패턴이 얻어지며, VLSI(초대규모 집적 회로)의 제조에 쓰인다.

‘100nm’ 장벽을 극복할 수 없다.
(100nm 장벽 : 렌즈로 사용되는 광학물질의 투명도에 대한 단파장 차단과 광학 굴절에 의해 결정되는 대상체 축소의 한계값)
볼록 렌즈로 빛을 모아주는데 광회절의 한계로 인해 전자기 복사선을 축소렌즈를 통과한 것보다 모아줄 수는 없다.
예를 들면 가시광선의 빛은 700nm 파장을 가지는데 이 빛을 주게 되면 350nm의 한계값이 나온다. 주로 UV 파장(200nm)을 사용하는데 따라서 빛을 모을 수 있는 가장 작은 한계값이 100nm가 되는 것이다.

참고 자료

없음