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PVD 증착법 결과 보고서 [A+ 레포트]

팅팅탱통
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최초 등록일
2020.06.01
최종 저작일
2014.04
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목차

1. Thermal evaporation 원리
2. 실험 과정(최대한 상세히 서술)
3. 사용 된 기판 종류와 마스크 모양(패턴)
4. 저항 측정 원리와 결과
5. 기판의 종류에 따라 증착한 metal전극의 용도 및 어플리케이션

본문내용

1) Thermal evaporation 원리
Evaporator에 있는 Material을 Heater를 이용하여 가열 시키면 tungsten boat위에 올려져있는 재료가 evaporate되어 챔버 위쪽으로 날아가게 되는데, 날아간 분자들은 상대적으로 훨씬 낮은 온도를 갖고 있는 기판에 증착하게 된다. 여기에는 반드시 고려해야할 사항이 있는데, 먼저 증발물질은 직진한다는 점이다. 진공 증착에서는 소스가 가열되면 열에너지에 의해 원자가 결합을 끊고 이탈하며, 이 순간의 에너지만으로 기판까지 직진하며 날아가게 된다. 때문에 중간에 다른 기체나 불순물 등에 충돌하게 되면 그 에너지를 잃고 기판이 아닌 다른 곳으로 가서 증착될 수 있다. 그래서 추가로 다른 에너지를 가하여 주는 달ㄴ PVD들에 비하여 가장 높은 진공도를 요구한다. 평균 자유행로가 기판까지 유지되어야 하기 때문이다. 또한 진공증착은 물질을 증발시킨 기체상태의 입자를 이용하기 때문에, 증발기체가 많을수록 증착속도를 크게 할 수 있다. 정해진 온도에서 최대의 증발기체량이 얼마인가 하는 것이 그 물질의 증기압력이란 것을 고려하면 결국 이것이 포화 증기압이 된다. 포화 증기압이란 어느 온도에서 기체화 되어 증발하는 원자의 수와, 응축되어 고상(혹은 액상)이 되는 양이 같은 상태를 말하는데, 포화 증기압은 온도가 높을수록 높기 때문에 증착속도를 조절하기 위해서 원하는 증발온도를 선택해야한다.

참고 자료

Jaeger, Richard C. (2002). “Film Deposition”. Introduction to Microelectronic Fabrication (2nd ed.). Upper Saddle River: Prentice Hall. ISBN 0-201-44494-1.
Bernhard Wolf (1995). Handbook of ion sources. CRC Press. p. 222. International Standard Book Number ISBN 0-8493-2502-1
Christoph Wild “CVD Diamond Properties and useful Formula” CVD Diamond Booklet (2008) PDF
http://marriott.tistory.com/73, 2016. 06. 04
"W"*소재개발 지원기술-표면/체적 저항율 측정*"W"*, xacaloyez
얇은 다공 구조 박막에서의 두께에 따른 박막 저항 변화, 송아리, Journal of Korean Magnetics Society, Volume 22, Number 1, February 2012
http://www.alibaba.com/product-detail/Nano-self-cleaning-coating-for-glass_530565718.html
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