A+ 박막의 패터닝 실험 예비보고서

목차

1. Title
2. Experimental objective
3. Theoretical background
4. Experimental details
5. References

본문내용

1. Title - Patterning and treatment of SiO2thinfilms(박막의 패터닝 및 표면처리)

2. Experimental objective
-반도체 소자의 제조공정은 수많은 공정은 세 가지로 나눌 수 있는데, 첫째는 증착공정, 둘째는 마스크의 패턴 형성, 셋째로 식각공정이다. 이러한 공정 가운데 중요한 공정은 박막의 식각공정으로, 마스크로 패턴된 박막을 효과적으로 식각하는 것이다. 본 실험에서는 마스크에 의하여 형성된 패턴을 증착 된 박막위로 전달하는 식각 공정을 이해하고, 박막의 패터닝 전후, 표면과 색깔과 패턴모양 및 두께의 변화 등에 대하여 고찰하고자 한다.

3. Theoretical background
A) 플라즈마 (Plasma) 란?
ⓐ플라즈마의 정의
일반적으로 물질의 상태는 고체·액체·기체 등 세 가지로 나눠진다. 플라즈마는 흔히 ‘제4의 물질 상태’ 라고 부른다. 고체에 에너지를 가하면 액체, 기체로 되고 다시 이 기체 상태에 높은 에너지를 가하면 수만℃에서 기체는 전자와 원자핵으로 분리되어 플라즈마 상태가 되기 때문이다. 플라즈마는 매우 높은 온도에서 이온전자 양성자와 같이 전하를 띤 입자들이 기체처럼 섞여있는 상태이기 때문에 중성의 원자와 분자들로만 이루어진 보통의 기체와는 전혀 다른 성질을 지닌다. 핵융합에서부터 반도체 가공표면 처리, 박막 코팅, 유해가스 환경처리에 이르기까지 넓은 분야에서 활용된다

ⓑ플라즈마의 특성
플라즈마는 열적으로 매우 고온의 성질을 가지기 때문에 화학적으로 매우 활성이 강한 라디칼로 구성된다. 따라서 일반적인 기체와 매우 다르다.
우선 플라즈마의 전기적 성질은 원자나 분자에 속하지 않은 전자를 많이 가지고 있어서 외부에서 전기장을 가할 시 전류를 흘릴 수 있고 열적 성질로는 내부에 전자나 이온의 활발한 열운동에너지, 내부 에너지를 축적할 수 있으며 온도가 높아질수록 내부에너지가 크게 증가하여 유요한 열원이 될 수 있다.

참고 자료

김학동, 「반도체 공정」, 홍릉과학출판사, 2008
류장렬, 이부형, 권순석, 「기초반도체공학」, 형설출판사, 2007
유순재, 「반도체공학」, 북스힐, 2010
Michael Quirk ž Julian Serda , 『반도체 소자 공정기술』, 최성재 역, 2006
한국공업화학회, 「무기공업화학」, 청문각, 2013
http://me.cau.ac.kr
www.allfs.com/chtml/board.php
www.semipark.co.kr/semidoc/waferfab/litho