PDP용 무연계 투명유전체 Dry Film 제조 실험보고서

소개글

최근 LCD와 더불어 양대 디스플레이 매체로 PDP가 떠오르고 있다. PDP 유전체 제조 시 환경문제를 고려하여 납산화물(PbO)이 없는 투명유전체를 만들기 위한 실험이다. 유전체는 투명성, 접착성, 투과도가 중요시 되며 직접 제조하면서 과정을 이해하고 측정을 해보도록 한다.

목차

□ 실험 목표
□ 실험 배경 이론
◉ PDP의 핵심재료 특성
◉ 투명 유전체의 조성 범위
◉ 투명 유전체 재료
◉ 유전체 재료의 요구특성
□ 실험 방법
◉ 유리 합성
◉ Dry Film 제조
□ 결과 및 고찰

본문내용

◉ 투명 유전체 재료
AC PDP에서 유전체는 유전 장벽 방전에 적합한 캐패시턴스를 제공하여야 하며, 유전막에 인가되는 전압에 대하여 절연 파괴가 발생하지 않아야 하는 전기적인 특성을 가져야 한다. 또한 전면판에 형성되는 유전막은 가시광선에 투광성이 우수하여야 하며, 유전막을 소성하여 형성시 기판 유리가 변형되지 않을 정도의 낮은 소성 온도를 가져야 한다. 마지막으로는 유전막이 유리 기판 재료의 열팽창 계수와 거의 유사하여야 한다. 열팽창 계수가 차이가 클 경우에는 기판 재료의 휨이 발생하고, 그의 차이가 커지면, 막의 파단 또는 기판 유리의 파괴를 유발하게 된다. 이러한 전기적, 물리적 특성을 만족하는 유리 재료로서는 PbO-SiO₂-B₂O₃계를 주요 성분으로 하는 유연 유리 재료가 주로 사용되어 왔다.
전면 유리 기판 표면에 형성된 투명 유전막은 표면 거칠기가 매우 작을 것이 요구된다. 소성된 유전막이 평활한 표면을 가지면, 유전체 표면에 형성되는 MgO보호막도 표면이 균일하여지고, 가시광선의 산란이 줄어들어 가시광선의 투과도가 증가하게 된다. 이러한 특성을 만족시키기 위해서는 유전체 재료의 점도가 소성 온도에서 낮은 특성을 갖도록 설계하여, 표면 장력에 의하여 표면 거칠기를 낮추는 방법이 사용되고 있다.
기존에 사용되어 온 유전체 재료는 앞에서도 언급한 바와 같이 대부분이 PbO로 구성되어 있는 유연 재료이다.
이 재료는 폐기될 경우, 토양을 오염시킬 가능성이 있기 때문에, PbO를 포함하지 않은 Bi₂O₃-SiO₂-B₂O₃-Al₂O₃, Bao-ZnO-SiO₂-B₂O₃, P₂O₅-ZnO-SiO₂-B₂O₃등의 무연 유리재료(led-free glas frit)등이 개발되고 있다. 이번 실험도 이와 같은 무연 유리재료를 이용한 Dry Film 제조이다.

◉ 유전체 재료의 요구특성
소성온도 530~580℃에서 광 투과율이 80% 이상일 것.
투과율이 양호하 Glass Paste는 저온 영역부터 기포의 발생이 적을 것.
내전압이 양호할 것
Ag전극 및 MgO 보호막과의 Matching이 양호할 것
일반적으로 열팽창계수가 65~85(×10-7/℃)에 연화점이 470~590℃의 재료가 사용된다.

참고 자료

없음