[나노] 나노 프린팅

소개글

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목차

◎ 개요
▲ nano imprint lithography (NIL)
▲ micro contact printing (-contact printing)
▲ nano shadow mask pattering
▲ flow behavior at the embossing stage of NIL
▲ room temperature and low pressure NIL-KIMM

본문내용

노 프린팅 공정기술은 첫째로 나노미터 크기정도의 패턴을 만드는데 있어 비용이 적게 드는 특징을 가지고 있다. 두 번째 특징은 하나의 스템프로써 제품을 만들어 낼수 있다. 세 번째 특징은 회질의 제한이 없다.
NIL 공정에서는 최소 20 ~40 nm까지 최소화가 가능하며, 그리고 SPM 의 공정의 경우에는 20nm까지의 미세화가 가능하며 정밀도도 우수하지만 속도가 느려서 생산성이 미흡하다.
기술적 특성으로는 먼저 NT (Nanotechnologies)는 BT (Biotechnologies), IT (Information technologies), ET(Energy & Environmental Technologies) 와 함께 인류의 삶을 개혁할 수 있는 기술로 각광받고 있다.
나노기술은 산업전반에 미치는 파급효과가 클 것으로 전세계적으로 관심과 주목을 받고 있으며 각국은 21세기 국가 경쟁력을 위해 반드시 확보해야 할 분야로 연구 지원을 확대하고 있다.
미국의 경우 National Nanotechnology Initiative 를 통해 5억불 이상을 연구 개발에 투자하고 있다. 일본이나 유럽의 선진국들도 각 나라의 현실에 맞게 정부 주도로 연구개발 프로그램을 통해 나노기술에 대한 연구지원을 확대하고 있다. 우리나라도 정부와 기업들의 통해 연구개발 프로그램을 지원을 확대하고 있다.

참고 자료

없음