Photolithography 와 Sol Gel process

목차

Ⅰ Photolithography
1. 배경
2. 원리

Ⅱ Sol-gel Process
1. 배경
2. 원리

본문내용

Photo-Lithography는 반도체와 같이 nano급의 미세한 Patterning을 하기 위한 공정 중 하나이다. 해석을 하자면 사진 석판화인데, 이 것은 우리가 초등학교 과학시간에 배웠던 판화실습과 유사하다. 미세 가공기술 개발의 선두에 있는 DRAM 기술을 포함한 여러 반도체 공정에 있어 Lithography 기술은 전체 기술의 개발에 중요한 요인이 되어왔다

<중 략>

Sol-Gel Process는 Sol-Gel 세라믹스를 제조하는 방법이다. sol은 콜로이드나 무기물 단분자 고체 분자들이 분산되어 있는 현탁액 상태로, 반응이 지속됨에 따라 분산된 고체 분자들이 고분자화 되어 연속적인 고체 망목 구조(network structure)를 이루어 유동성을 잃은 gel상태가 된다.

참고 자료

없음