Cu 진공증착실험 결과리포트
- 최초 등록일
- 2010.07.06
- 최종 저작일
- 2010.07
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소개글
Cu 진공증착실험 결과리포트
목차
1. 목적
2.실험0순서0
3. 증착기 흐름도
Valve 조절순서
본문내용
1. 목적
진공증착을 이용하여 Si Plate에 Cu를 직접 증착시켜보고 그 원리에 대하여 이해한다.
2. 실험순서
1) Si Plate에 Mask를 씌운다.
2) Cu와 Si Plate+Mask를 Chamber안에 넣는다.
3) Chamber 내부를 진공으로 만든다.
4) Voltage를 조절하여 Cu를 진공하에서 증발, 증착시킨다.
5) Chamber의 압력을 상압으로 조절 후 Subtrate를 확인한다.
3. 증착기 흐름도
chamber
v1
v2
v3
v4
v5
v6
v7
v1 : Roughing valve
v2 : Gate valve
v3 : Diffusion Pump
v4 : Foreline valve
v5 : Leak valve
v6 : Rotery Pump
참고 자료
없음