Nano Imprint Lithography NanoimprintLithography 기술은 경제적이고도 효과적으로 나노구조물을 제작할수 있는 기술로 nanostructute 이 ... 또한 유사한 방식으로 고분자에 적용한 Nanosecond laser-assisted nano-imprintlithography에서는 고분자 레지스트에 100nm 선폭과 90nm 깊이의 ... (LADI)을 개발하였다. - Laser-assisted direct imprint (LADI) of nanostructures in silicon 다음 그림과 같은 이 기법은 308nm