PECVD에 대한 보고서

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"PECVD에 대한 보고서"에 대한 내용입니다.

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PECVD란, Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition의 약자로써, 플라즈마를 이용한 화학기상증착법이다. 우리는 수업시간에 플라즈마를 이용한 스퍼터이론에 대해 배웠다. 이는 고체 타겟을 이용한, 물리적 기상증착법에 해당한다. 물리적 기상증착법은 화학적 기상증착법에 비해서 저온에서 증착할 수 있다는 것이 이점인데, 이는 플라즈마를 사용하기 때문이다. 화학기상증착법은 화학반응을 통해서 박막을 증착시키는 방법인데, 단점으로 고온의 환경이 필요하다. 이를 해결해주는 것이 PECVD로 Plasma를 매개체로 화학반응을 통해서 표면에 박막을 증착시키는 방법이다. 이는 다른 CVD와는 다르게 400도 정도의 낮은 온도로도 증착이 가능하다. 그러나 Plasma를 이용하기 때문에 이로 인한 기판의 손상이 일어난다는 단점이 존재한다.

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