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[전자소자] 반도체 확산공정

등록일 2003.05.23 파워포인트파일MS 파워포인트 (ppt) | 28페이지 | 가격 1,500원
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많은 도움이 됐으면 합니다....^^

목차

1. 확산공정이란
2. 확산공정의 종류
3. 확산의 수학적 모델
4. 고정소스확산
5. 제한소스확산
6. 2단계 확산
7. 확산계수
8. Successive Diffusions
9.Solid-Solubility limits
10. Vertical Diffusion and Junction Formation
11. 수평확산
12. 농도의존적 확산
13. 시트저항
14. Junction-Depth Measurement
15. 확산 시뮬레이션 - 확산시스템
16. Gettering

본문내용

*Motivation
intentional impurity diffusion
unwanted impurity contamination
*Impurity Doping
control resistivity
low contact resistance
control gate impurity concentration
switching speed
gettering
shallow junction depth
*종류substitutionaldiffusion interstitial diffusion
Interstitialcy diffusion

농도 의존적 확산
Diffusion : 확산온도에서의 순물질의 캐리어 농도 ni보다 작은 불순물농도에 대해서 앞의 확산이론을 따른다. 이 농도 이상에서는 확산계수가 농도에 의존적.
일정한 확산계수를 갖는 경우에 비해서 확산 형태가 갑작스러운 결과.
→ 스케일된 VLSI 소자에서 회망되는 얕은 접합의 형성에 가치

참고 자료

반도체공정개론, 저자 Richard C. Jaeger
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