[표면처리] 양극산화

등록일 2002.05.03 한글 (hwp) | 7페이지 | 가격 4,000원

소개글

리포트를 써야하는데 양극산화에 대한 자료가 없더라구요
그래서 이렇게 올리게 되었습니다

목차

1.개요
2.전해액
3.양극산화피막의 생성과 구조
4.전처리
(1)기계적 전처리
(2) 화학적 전처리
5.양극산화의 특징
(1)옥살산법
(2)황산법
(3)경질양극산화
6.착색법
(1)유기염료
(2)무기염료
(3) 자연발색법(전해발색법) 및 전해착색법
7.봉공처리
8.피막성장이론

본문내용

1)개요
금속 또눈 실리콘 같은 반도체 등을 적당한 전해액 속에서 양분극 처리해 주면 표면에 산화물피막이 생성되는데 이러한 산화물층은 매우 치밀하고 견고하여 내부의 금속을 보호해 주며 이러한 보호성의 또는 부동태막을 얻는 것을 말한다. 일반적으로 Al의 양극 산화법이 대부분을 차지하며 이렇게 생성된 Al피막은 투명 또는 반투명으로 내식성이 뛰어나고 다공질이어서 여러 가지 색으로 염색할 수 있으며 Al의 순도가 높을수록 아름답고 광택이 좋은 피막을 얻을 수 있으며 공업용은 물론 장식용으로도 많이 사용되고 있다. 순수한 알루미늄 위에 산화물을 생성하는 속도는 다음과 같다.
.
.
또한 양극산화법으로 생성된 산화물피막의 전기적 성질은 다음의 두 가지 경우가 있다.
① 산화물 고른 전연성을 보이며 높은 전장을 인가하여도 일정한 이온전도성을 나타내며 알루미늄 산화물이 대표적이다.
② 산화물이 전자전도성이 좋아 전류를 흘렸을 때, 이온전도성이 일정하게 유지되며 스테인리스 표면보호피막이 대표적이다. 이러한 전자 전도성 피막 중에 이온이 통과하게 되면 긴 거리라도 전류가 흘러서 피막이 두껍게 성장하게 된다. 보통의 조건에서는 수십 Å 이상으로 두껍게 피막이 형성되기는 어렵다. 그러나
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