참고문헌 인하대학교화학공학과/ 공업화학, 화학공학 실험교재/ 인하대학교화학공학과/2019/19~32p 월간전자기술 편집위원회/ 전자용어사전/ 성안당/ 1995 HYPERLINK ... 이 실험의 결과로 결론의 내게 된다면 일반화의 오류를 범할 수 있다. 본 실험을 통하여 반도체 공정 중 식각공정에 대해 알아보았다. ... 실험결과 분석 및 고찰 실험결과 및 분석 첫번째 두께(Å) 두번째 두께(Å) 세번째 두께(Å) 평균 두께 패터닝된산화막 (a) 11900 11980 11960 11947 식각한 산화막
참고문헌 미상, 『공업화학.화학공학 실험교재』, 인하대학교화학공학과, 2019, p57~70. 도진환, 『화학반응공학』, 동화기술, 2017, p29~43. H. ... 반응 속도식 정의 반응속도는 화학반응이 진행되는 속도를 나타내는 값이다. 다음과 같은 단일반응을 살펴보자. Aa+bB→cC+dD A의 반응속도는 rA라 하며 이다. ... 이 식은 이온반응과 같이 매우 빠른 반응을 제외한 균일한 기체상, 액체상에서의 반응 과 불균일한 접촉반응 및 고체상 반응 등의 일반화학반응, 확산, 점성 등의 물질 이동현상에 적용가능하다
Zumdahl, 『줌달의 일반화학』, 사이플러스, 9판, 2014, p.186~187, p.572-609, p.673~717 인하대학교화학공학과, 공업화학 • 화학공학 실험교재, ... 』, 사이텍미디어, 김상환 • 임선기 공역, 2000, p.1~28, p.41~81, p.97~99 대학화학교재편찬회, 『일반화학실험』, 사이플러스, 2016, p.19~21 Steven ... 고체의 단위표면적 기준 반응 속도 기체-고체계에서 고체의 단위 부피 기준 반응속도 반응기의 단위 부피 기준 반응속도 aA + bB → rR + sS 에서 반응물 A의 반응속도 Mole