• 파일시티 이벤트
  • LF몰 이벤트
  • 서울좀비 이벤트
  • 탑툰 이벤트
  • 닥터피엘 이벤트
  • 아이템베이 이벤트
  • 아이템매니아 이벤트
  • 통합검색(905)
  • 리포트(818)
  • 자기소개서(60)
  • 시험자료(17)
  • 논문(7)
  • 방송통신대(2)
  • 서식(1)

"화학적 식각" 검색결과 61-80 / 905건

  • 워드파일 SK 계열사 연구직 지원(SK 마이크로웍스솔루션즈)
    이러한 수요에 따라 저의 연구활동은 기존 기술의 한계점을 이겨내기위해 화학적 식각, 몰딩 그리고 플라즈마 방법으로 접근하였으며, 이를 통해 독특한 형태의 마이크로-나노 패턴을 구현했습니다 ... 기존 논문에서는 식각 시간과 용액의 농도에 따라 식각률의 변화가 커진다고 보고돼 있어 농도와 식각 시간만으로 최적화 공정 개발을 진행했습니다. ... 알코올과 식각 용액 비율에 따라 산화/환원의 정도가 달라지고 식각액 온도에 따라 이온화도가 크게 달라진다는 점을 특허로 알게되었고 곧바로 실험을 재설계했습니다.
    자기소개서 | 3페이지 | 5,000원 | 등록일 2023.12.29
  • 한글파일 [대입][수시면접][면접 후기][중앙대면접] 중앙대학교 전자전기공학부 면접 시 자주 하는 질문과 답변내용을 정리해보았습니다. 관련 학과로 면접을 보실 때 꼭 한번 읽어보고 가시면 큰 도움이 될 것입니다.
    건식공정은 물리적, 화학적 방법을 모두 사용하는데 플라스마를 웨이퍼 표면에 강하게 충돌시켜 식각하는 물리적 방법과 원자핵과 전자가 공존하는 플라스마와 웨이퍼 표면 사이의 화학적 반응을 ... 이용하는 화학적 방법이 있습니다. ... [교수] 자기소개서에서 반도체 8대 공정을 공부했다고 했는데, 식각공정의 건식방법은 어떻게 진행되나요?
    자기소개서 | 3페이지 | 3,000원 | 등록일 2022.11.19
  • 파일확장자 맥신(Mxene)이란 무엇인가
    대표적인 MXene으로는 Ti3C2TX가 있습니다.판상 구조의 특성을 활용해 높은 표면적과 전기전도도, 높은 화학적 안정성을 바탕으로 차세대 그래핀(Graphene)으로 불리며 배터리 ... phaseMXene은 전이금속에 탄소(C) 또는 질소(N)가 결합된 2차원 판상구조의 물질로 알루미늄(Al)과 같이 중간 층을 형성하고 있는 MAX Phase에서 중간층만을 선택 적으로 식각하는
    리포트 | 10페이지 | 2,500원 | 등록일 2024.04.18
  • 워드파일 SK이노베이션 산학장학생 지원
    이러한 수요에 따라 저의 연구활동은 기존 기술의 한계점을 이겨내기위해 화학적 식각, 몰딩 그리고 플라즈마 방법으로 접근하였으며, 이를 통해 독특한 형태의 마이크로-나노 패턴을 구현했습니다 ... 기존 금속 보조 습식 식각 관련 논문에서는 식각 시간과 용액의 농도에 따라 식각률이 크게 변화된다고 보고돼 있어 반사도를 낮추기 위해 식각액의 농도와 식각 시간만으로 최적화 공정 개발을 ... 학부 연구생으로 랩미팅에 참여했을 때, 교수님께서 참여한 학회에서 접했던 기판 식각을 이용한 집광 기술에 대해 말씀해 주셨고 랩실 인원 모두에게 처음 시도하는 기판 식각공정과 집광
    자기소개서 | 4페이지 | 5,000원 | 등록일 2023.12.29
  • 한글파일 어플라이드 머티어리얼즈 CE 기업조사 AMK/반도체/CS엔지니어/ETCH
    그래서 기계적인 지식뿐만 아니라 각 공정의 특징에 따른 전기적, 화학적, 물리적 지식 또한 필요합니다. ... 이 아키텍처는 웨이퍼가 패싱할 때마다 축적될 수 있는 식각 부산물을 빠르고 효율적으로 제거함으로써 탁월한 식각 프로파일 제어를 제공한다. ... 현재까지 5천개 Sym3 챔버 출하 - 새로운 센트리스 Sym3 Y 는 어플라이드이 최첨단 컨덕터 식각 시스템.
    리포트 | 6페이지 | 4,000원 | 등록일 2021.10.31 | 수정일 2022.01.24
  • 한글파일 반도체 공정관련 면접질문 대비 및 이론 공부
    증착입자가 기판 표면과 반응 후 이동할 수 있는 능력 -표면 이동도는 입자의 특성과 기판 온도에 의존 [정의2]고착계수: 입자가 기판 표면과의 한번의 충돌로 기판 표면의 원자와 결합하여 화학흡착이 ... 시작부터 종말점 까지의 식각을 주 식각이라고 하고, 선택비가 우수한 레시피를 써서 잔여 박막을 상대적으로 느린 식각율로 식각하는 단계를 과도식각이라 함 -식각 공정의 주요 파라미터 ... 박막을 얼만큼 제거할 수 있는지를 나타낸 값, 식각된 박막의 두께를 식각 시간으로 나눈 식각속도 의미 [특징1] 습식 식각의 경우 식각제로 사용되는 케미칼의 종류, 온도, 농도에
    자기소개서 | 33페이지 | 3,000원 | 등록일 2023.01.28
  • 워드파일 [2022 하반기] 삼성전자 파운드리사업부 공정기술 합격자소서
    세 가지 공정 변수인 가스 비율, RF파워 , 압력이 식각 속도에 어떻게 영향을 미치는지 이해하였으며, SiO2의 식각속도와 PR 식각속도를 통해 선택도를 계산하였습니다. ... 리소그래피 과정이 끝난 SiO2 웨이퍼를 세 가지 공정 변수를 직접 설정하여 에칭 공정을 진행하였으며, 식각된 웨이퍼의 두께를 측정하여 식각속도를 구했습니다. ... 반도체 공정기술에 필요한 역량을 쌓기 위해 `물리화학`,`유기화학`, `유기나노재 료`, `공업화학실험` 등의 전공 과목을 수강하여 최고 학점 A+을 받았습니다. 1) 물리화학/유기화학
    자기소개서 | 3페이지 | 3,000원 | 등록일 2021.09.05 | 수정일 2023.02.17
  • 한글파일 반도체 8대 공정(전공정, 후공정)의 이해
    그동안 삼성전자는 선행 연구를 무조건 글로벌 업체와 진행했지만, 아베의 소부장 사태 이후 국내 업체들의 참여 비중을 점점 늘리는 추세다. 3) 식각공정 (1) 식각공정, 불필요한 부분을 ... 건식은 반응성 기체, 이온 등을 이용해 특정 부위를 제거하는 방법이고, 습식은 용액을 이용해 화학적인 반응으로 제거하는 방법이다. ... 글로벌 건식 식각 장비 시장은 램리서치, 도쿄일렉트론, AMAT 등 3사가 91%를 차지한다.
    리포트 | 13페이지 | 3,000원 | 등록일 2024.01.14
  • 파일확장자 기계공학응용실험-MEMS기초
    화학액을 사용하는 습식에칭(wet etching)과 플라즈마를 이용하는 건식에칭(dry etching)으로 대별할 수 있다. 3) Bulk Micromachiningmembrane ... , beams, bridges, cavity등 3D 구조를 만들기 위하여 그림과 같이 기판으로 Tm이라는 실리콘을 식각해서 실리콘으로 이루어진 구조체를 만들거나, 구조체의 일부로 사용하는 ... film)으로는 산화층(silicon dioxide), 질화층(silicon nitride), 다결정 실리콘(polycrystalline silicon), 알루미늄 등이 주를 이루며, 식각으로는
    리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2020.08.11
  • 워드파일 패터닝 결과
    공업화학실험 Patterning and treatment of SiO2 thin films Experimental details [사용된 재료] etching gas(Ar, C2F6 ... 이를 통해 식각이 얼마나 잘 진행되었는지를 알 수 있다. ... 알아보기 전에는 C2F6가 식각에서 가장 큰 역할을 한다고 판단했기 때문에 최적의 식각 비율이 Ar의 농도가 아주 낮은 곳에서 형성될 것이라고 생각했다.
    리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2019.10.30
  • 한글파일 [시험자료] 반도체공정및응용 중간고사 정리 (족보)
    RIE 장비의 특징 및 식각 원리에 대하여 설명하세요. ? 물리적/화학적 etching의 조합, Highly anisotropic etching, 정밀 패턴 전사, 고해상도 ? ... (물질은 기판 표면의 화학적 수단과 이온 폭격에 의해 제거 될 수 있다.) 37. ... 패턴이 미세할 경우, 식각 되는 깊이가 깊어질수록 자주 발생한다. 38.
    리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2019.10.20 | 수정일 2019.12.02
  • 한글파일 반도체, 리소그래피 간단요약
    리소그래피(Lithography)의 주요 공정순서 1.웨이퍼 표면의 입자 문제뿐만 아니라 유기물, 이온, 금속 불순물의 오염을 막기 위해 화학적으로 세척하고, 실리콘 웨이퍼를 세정 ... 식각(Etching) : 노광 과정 후 원하는 부위만 선택적으로 제거시키는 공정 2. ... 뒤이은 이온주입 및 식각 공정을 위해 웨이퍼 상에 회로구조를 광학적으로 인쇄하는 것이다.
    리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2021.01.11
  • 파워포인트파일 반도체 8대 공정 제조기술 및 프로세스에 대한 자료
    반도체 8 대 제조 공정 - 반도체 제조의 8 대 공정도 순서 Wafer 제조 공정 Oxidation 산화공정 Photo Lithography 공정 Etching 식각 공정 Deposition ... 기상 증착 ) Electrochemical cathode oxidation ( 전기화학적 산화 ) + 900 ~ 1200 ° ... (more dense): O 2 ( 건식 ) wet oxidation (less dense): O 2 , H 2 O ( 습식 ) Plasma-Enhanced CVD ( 플라즈마 화학
    리포트 | 33페이지 | 1,000원 | 등록일 2021.12.09 | 수정일 2021.12.13
  • 한글파일 서울과학기술대_반도체제조공정_클린룸 견학 보고서 A+
    Etch(식각) 공정은 Photo 공정에서 만들어진 패턴이나 Hard Mask를 보호막으로 삼아 패턴이 없는 하부 막질을 물리, 화학적 방법으로 깎아 실제 회로 패턴을 형성하는 공정이다 ... 그렇다면 Photo 공정과 식각 공정은 어떻게 이루어지는 것일까? ... 하지만 실제 반도체 공정은 산화 공정 이후 Photo 공정을 거쳐 식각 공정까지 거쳐야 박막 공정을 할 수 있다.
    리포트 | 8페이지 | 2,500원 | 등록일 2024.04.01
  • 한글파일 서울시립대학교 일반대학원 신소재공학과 연구계획서
    저는 또한 저등급 폐열 회수 시나리오: 초전기, 열자기 및 열갈바닉 열 에너지 수확 연구, 열 원자층 식각법을 이용한 박막 재료 식각 연구, 희소 스캐닝 켈빈 탐침 힘 현미경을 사용하여 ... 저는 또한 이황화 몰리브덴 및 나트륨 내장 알루미나의 슬롯 다이 프린팅을 사용하여 제작된 웨이퍼 규모 트랜지스터 어레이 연구, 자체 지속 가능한 스마트 전자 슈트를 위한 생물리화학적 ... 표면 전하 역학의 고속 매핑 연구, Mg 합금 기저면의 거시적 변형 거동에 대한 복잡한 변형 조건의 영향 연구, 리튬이온 파우치형 풀셀의 과도한 고압으로 인한 유해한 전기화학적 거동
    자기소개서 | 1페이지 | 3,800원 | 등록일 2024.05.09
  • 한글파일 마이크로컴퓨터 레포트(5)
    식각 과정을 거쳐 만들어진 회로 패턴의 특정 부분에 이온형태의 불순물을 주입하여, 전자 소자의 영역을 만들어주고, 가스 화학반응을 통해 형성된 물질을 웨이퍼 표면에 증착시킴으로써, ... 세정 공정은 반도체 제조 공정 중 발생하는 각종 오염원들을 화학용액을 사용하여 제거하는 것으로 반도체의 전기적, 물리적 성질을 강화하고, 화학적 기계적 공정은 우수한 품질의 웨이퍼 ... 막이 형성된 웨이퍼를 노광장치에 고정한 후 패턴이 새겨진 마스크를 대고, 자외선에 노출시키면 현상과정을 거쳐 감광막의 패턴이 생성된다. ● 식각(에칭)공정 - 웨이퍼에 그려진 회로
    리포트 | 8페이지 | 3,000원 | 등록일 2021.05.16
  • 한글파일 반도체 산업의 향후 세계 시장 변화 모습에 대한 예상 보고서
    LP-CVD(저압 화학기상증착) 장비를 공급하는 유진테크, PE-CVD(플라즈마 화학증착) 장비를 공급하는 원익IPS, 주성엔지니어링, 테스 총 4개 업체를 눈여겨볼 만하다 테스 외 ... 낸드플래시 원조 업체 도시바가 삼성전자에 밀린 것도 램리서치의 식각공정 장비에 적응하지 못했기 때문이다. 삼성전자는 램리서치와 손잡고 첨단 식각공정 개발에 온 힘을 다했다. ... 노광 공정, 식각공정에 비해 중요도는 조금 낮은 편이지만 국산화 흐름이 가장 좋은 분야는 증착공정이다.
    리포트 | 5페이지 | 2,500원 | 등록일 2024.01.14
  • 한글파일 실리콘 웨이퍼 표준 세정, Cr증착, photolithography 공정 최종보고서
    원자층 화학증착은 에피택시 결정성장법으로 기상화학증착과 달리 표면 막과 화학반응하여 표면성질을 변화시키는 증착 방법이다. ... 증착은 크게 물리기상증착(PVD), 화학기상증착(CVD), 원자층 화학증착(ALCVD) 세 가지가 있다. ... 화학기상증착은 화학적으로 반응이 일어나며 일어나는 증착과정으로 투입 물질이 시료와 반응하여 전혀 새로운 물질로 증착되어 박막이 형성되며 물리기상증착은 화학적 반응이 일어나지 않고 물리적인
    리포트 | 17페이지 | 2,000원 | 등록일 2020.04.01 | 수정일 2020.08.17
  • 워드파일 LG화학 첨단소재 생산기술 자기소개서_22년 5월
    ECMP로 전기분해와 식각양 연관성 실험을 진행하였습니다. ... CMP후 웨이퍼 두께를 4-point probe로 직접 측정하고 재료 제거율과 식각률을 계산했으며, 타펠 플롯을 통해 부식 전류 밀도값을 측정하고 전극의 전기분해 능력을 파악하였습니다 ... LG 화학에서 이루고 싶은 나만의 꿈과 비전을 소개해주세요. (LG화학에서 본인이 기대하는 미래의 모습과 계획을 바탕으로 기술해주시기 바랍니다.)
    자기소개서 | 2페이지 | 4,000원 | 등록일 2022.11.10
  • 한글파일 삼성전자 파운드리 공정기술 직무면접 준비자료
    RIE는 selectivity 괜찮은 편) 빠름 Selectivity 높음 가격 저렴 수율 높음 단점 느림 Selectivity 낮음 가격 비쌈 수율 낮음 3um이하에서 사용 불가능 화학물질로 ... 부식액에 담아서 식각한 후 식각이 끝나면 용액을 씻어내고 말려서 마무리. ①SiO2를 wet 식각 부식액은 HF, 완충용액은 NH4F를 씀. ... (시간 분의 깎인 두께) +)Etch Selectivity 원치 않는 부분의 식각 속도 분의 원하는 부분의 식각 속도 +)Uniformity 식각 속도가 웨이퍼 상에서 얼마나 균일하게
    자기소개서 | 19페이지 | 3,000원 | 등록일 2023.09.07
  • 레이어 팝업
  • 레이어 팝업
  • 레이어 팝업
AI 챗봇
2024년 06월 04일 화요일
AI 챗봇
안녕하세요. 해피캠퍼스 AI 챗봇입니다. 무엇이 궁금하신가요?
12:31 오전
New

24시간 응대가능한
AI 챗봇이 런칭되었습니다. 닫기