"직류 마그네트론 스퍼터링"의 검색결과 입니다.

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스퍼터링 evaporator sputter 결과레포트 반도체 공정 기상반응법

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"직류 마그네트론 스퍼터링" 검색결과 1-20 / 51건

직류 마그네트론 스퍼터링 공정 중 타겟 오염에 따른 박막 및 계면 형성 특성 (Interlayer Formation during the Reactive DC Magnetron Sputtering Process)

한국반도체디스플레이기술학회 이진영, 허민, 이재옥, 강우석

논문 | 4페이지 | 무료 | 등록일 2025.03.17 | 수정일 2025.03.28

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직류 및 유도결합 플라즈마 마그네트론 스퍼터링법으로 제조된 HfN 코팅막의 미세구조 및 기계적 물성연구 (Microstrcture and Mechanical Properties of HfN Films Deposited by dc and Inductively Coupled Plasma Assisted Magnetron Sputtering)

한국표면공학회 장훈, 전성용

논문 | 5페이지 | 무료 | 등록일 2025.04.26 | 수정일 2025.05.14

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서울시립대학교 대학원 신소재공학과 연구계획서

형 및 p형 실리콘의 마이크로파 광전도 감쇠 측정 관련 연구, 금속 및 세라믹 타겟으로부터의 직류, 펄스 직류 및 무선 주파수 마그네트론 스퍼터링에 의한 WO3 박막의 구조 및 전기 ... 특성 변조 연구, 금 나노입자로 장식된 ZnO 마이크로로드의 향상된 광검출기 성능 분석 연구, 금속 및 세라믹 타겟으로부터의 직류, 펄스 직류 및 무선 주파수 마그네트론 스퍼터링 ... 공정: 분말 정제에서 결정 성장까지에 대한 연구, BiFeO3-Y3Fe5O12 벌크 세라믹 및 스퍼터링된 박막의 구조적, 전기적 및 자기적 특성 연구, 저융점 공융 Sn-Bi 솔더

자기소개서 | 2페이지 | 3,800원 | 등록일 2023.02.27

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성균관대학교 일반대학원 신소재공학부 학업계획서

니켈 음극의 열 구동 미세 구조 비교 연구, 다결정 및 단결정 설계의 임계 소성 온도 연구, 금속 및 세라믹 타겟의 직류, 펄스 직류 및 무선 주파수 마그네트론 스퍼터링에 의한 WO

자기소개서 | 1페이지 | 3,800원 | 등록일 2023.09.30

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[재료공학실험]투명전극재료의 합성 및 물성 평가

되는 ITO 박막의 제조에 대한 실험이었다. 실험 방법은 가장 보편적으로 쓰이는 마그네트론 스퍼터링 방법을 이용하여 glass 기판에 박막 증착을 직접 해보았고, 투명 전도막이 가져야할 ... 가 있는데, 우리가 사용한 방법은 주로 금속 타겟에 쓰는 DC 스퍼터링을 인듐틴을 타겟으로 사용하여 박막코팅을 하였다. 직류 전류를 이용하는 DC 스퍼터링방법을 사용하면 우리 ... 에는 저항 가열법(thermal evaporation) 과 전자선 가열법(eletron beam evaporation) 그리고 스퍼터링(sputtering) 법의 물리적 증착

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 6페이지 | 2,500원 | 등록일 2022.02.20 | 수정일 2022.02.22

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Evaporator_Sputter 레포트

다.스퍼터링 방법에는 DC Sputtering, RF Sputtering, Magnetron Sputtering 등이 있다.먼저 DC Sputtering은 직류 전원을 이용한 스퍼터링 방법 ... 의 Reactive Sputter로 산화물과 질화물 박막의 형성이 가능하다는 점이 있다. 하지만, Magnetron 스퍼터링을 제외한 나머지에서 증착 속도가 낮고, 높은 에너지를 이용한 충돌 ... 다.그림 SEQ 그림 \* ARABIC 7. DC Sputtering 구조 [5]또한, RF 스퍼터링에 비해서 증착 속도가 빠르고 박막의 균일도가 크며, 밀착 강도가 높다는 장점이 있

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 7페이지 | 2,500원 | 등록일 2021.11.08

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반도체 공정 term project

에 의해 음극인 target쪽으로 가속되어 타겟의 표면과 충돌하면 중성의 target원자들이 튀어나와 기판에 박막을 형성한다. DC Sputtering방법은 직류전원을 이용 ... puttering이 가능하며 주로 13.56MHz의 고주파 전원을 사용한다.I. Introduction (혹은 서론)Sputtering 현상은 1852년 Groove가 유리관 속의 직류방전 중 ... 에 처음으로 발견하였다. 1974년 Chapin은 평탄한 target의 하부에 자석을 설치하여 Magnetron Sputtering을 발명했다. 이후 다양하고 우수한 박막을 코팅

리포트 | 11페이지 | 5,000원 | 등록일 2023.06.22

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재료공학실험(세라믹) 최종 보고서

1. 실험 목적Magnetron 스퍼터링을 이용하여 각각의 웨이퍼에 재료를 증착시킨 후 박막 형성 결과에 대한 다양한 특성 평가를 진행한다.2. 실험 원리2.1 DC ... 으로 튀어나온 타겟 물질이 기판 위에 붙으면서 박막이 형성된다. 여기서 DC라고 함은 Direct Current(직류)를 말하며, 전력원으로 직류를 사용한다는 것을 의미한다. DC ... 를 사용할 시 타겟으로 부도체를 사용할 경우 타겟 표면에서의 Ar 양이온들의 charging 에 의해 스퍼터링이 어렵기 때문에, 타겟이 어떤 물질인지 먼저 파악하는 것이 중요하다.또한

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 12페이지 | 2,000원 | 등록일 2022.09.08

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하지층 Cr의 스퍼터링 압력을 달리하여 제작한 Cr/CoSm/Cr 자성막의자기상호작용이 자기역전부피에 끼치는 영향 (Magnetic Interaction Effects on Magnetic Switching Volume for Cr/CoSm/Cr Magnetic Films Deposited with Different Sputtering Pressures of Underlayer)

한국자기학회 권해웅, 정순영, 김현수

논문 | 6페이지 | 무료 | 등록일 2025.04.27 | 수정일 2025.05.14

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[기초공학실험]Cu film의 전기적 특성 분석 실험

가 외부로 튀어나가는 현상을 스퍼터링 또는 스퍼터라 부른다. 스퍼터링에 의해 튀어나간 원자(스퍼터원자)를 기판 위에 퇴적시켜 박막을 만들며 이를 스퍼터링법 또는 물리적 증착 방법이 ... ) sputter의 종류 ① DC sputtering직류전원을 이용한 sputtering 방법이다. DC sputtering에서는 target이 산화물이나 절연체일 경우 s ... 물질의 스퍼터링량이 target 물질의 면적비와 대차가 없으므로 응용범위가 넓다.- 성막속도가 여러 종류의 금속에 대해 거의 일정하다.- 전류량과 생성피막의 두께가 정비례

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 8페이지 | 3,200원 | 등록일 2019.09.02 | 수정일 2020.08.10

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증착법

목차Ⅰ. 물리 기상 증착법1. PVD1 열 증착법2 전자빔 증착법3 스퍼터링 법Ⅱ. 화학 기상 증착법2. CVD1 열선에 의한 CVD2. 1. 1 Hot - Wire CVD2 ... -beam Evaporation), 스퍼터링 법(Sputtering)이 있다. 이 방법들이 공통적으로 PVD로 분류되는 이유는 증착시키려는 물질이 기판에 증착될 때 기체상태가 고체상태 ... 하다. 단점으로는 X-ray 발생과 E-beam source 위에 원자의 농도가 크므로 와류 또는 discharge가 심하다.1. 3 스퍼터링 법(Sputtering)스퍼터링이란, 진공 속

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| 리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2018.12.08

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PVD의 종류와 특성, 응용분야

에을 발생시키는 방법에 따라 D.C, R.F(Radio Frequency), microwave, ion beam 등이 있다. 가장 간단한 기술은 직류 2극 스퍼터링이며, 일반 ... 서 만들어진 플라즈마에서 이온이 음극으로 들어가게 되고 이로 인해 타겟물질이 스퍼터링 되는 것이다. 직류 스퍼터링은 사용이 간편하고 금속이나 반도체 등을 증착시킬 때 일반 ... 적으로 이용하게 되는 방법이다. 직류 2극 스퍼터링은 전류와 가스압력에 의해 정해지는 가속전압에 따라 스퍼터링 속도가 결정되어 전류를 증가시키면 가스압력도 증가시켜야 한다. 그러나 가스압력

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| 리포트 | 21페이지 | 2,500원 | 등록일 2015.01.08 | 수정일 2023.04.29

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스퍼터링

의 경우 열전도성이 좋지 않아 증착속도가 제한된다. 그래서 재료로부터 화학반응을 이용하여 절연막을 증착시키는 방법도 사용된다.3. 마그네트론 스퍼터링 (Magnetron ... 재료 공학 실험 예비레포트Sputtering...제출일 : 2006년 4월 13일◎ Sputtering 의 종류1. 직류 스퍼터링 (DC Sputtering)스퍼터링 방법 ... 행정거리 이하일 때 플라즈마는 성막된다. 따라서 스퍼터링시 기판과 카겟사이의 거리는 중요한 인자(factor)가 된다. 여기서 인가된 전원이 직류(direct current, DC

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| 리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.09.21

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스퍼터링(Sputtering) 결과 레포트

접 전달한다는 점이다.스퍼터링은 DC Magnetron, RF Magnetron, BIAS, Reactive 등 스퍼터링 원리를 이용한 다양한 장비가 있다.- DC ... 결과 레포트Thin Film 공정 : Sputtering윤영훈차례1. 실험 목적2. 실험 원리1) 글로우 방전2) 스퍼터링3) RF4) 기타 도구 및 용어3. 실험 과정4. 실험 ... 결과5. 실험 고찰1. 실험 목적RF - Magnetron Sputtering을 이용하여 500℃에서 ZnO 박막의 증착 및 분석2. 실험 원리(1) Glow Discharge

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 11페이지 | 1,500원 | 등록일 2015.05.18

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재공실 실험2 예보 - RF-Magnetron Sputter를 이용한 박막 증착 원리 이해

거나, 자석의 전류를 변화시키면 개선할 수 있다▶Magnetron Sputtering마그네트론 스퍼터링(magnetron sputtering)이란 발생된 플라즈마를 영구자석에서 발생 ... , DC)일 경우를 직류스퍼터링법(DC sputtering)라 하며 일반적으로 전도체의 스퍼터링에 사용된다. 이 공법은 가장 표준적인 스퍼터링 장치로서 구조가 간단하고 두게 조절 ... 재료공학실험3 2013년 1학기예비보고서RF-Magnetron Sputter를 이용한 박막 증착 원리 이해1) PVD 증착방식인 Sputtering의 원리에 대한 이해▶PVD

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2013.10.29

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CIGS 개론

,박막이 UV나 이온 등에 직접노출 인가된 전원이 직류(direct current,DC)일경우 직류스퍼터링법(DC sputtering)라 하며 일반적으로 전도체의 스퍼터링에 사용 ... 에 noise의 발생 원인이 될 수 있으므로 시스템적으로 noise filter나 절연체에 의한 차폐와 접지가 중요하다.그림3 RF sputtering system마그네트론 스퍼터링 ... 제조 방법으로는 증발법, 스퍼터링 + 셀렌화, 화학적인 방법으로는 전기도금 등이 있고 각 방법에 있어 서도 출발물질 (금속, 2원 화합물 등)의 종류에 따라 다양한 제조방법이 동원

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| 리포트 | 18페이지 | 2,500원 | 등록일 2014.02.08 | 수정일 2015.08.24

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[예비보고서] RF-Magnetron Sputter를 이용한 박막 증착 원리 이해

filter나 절연체에 의한 차폐와 접지가 중요하다.마그네트론 스퍼터링(magnetron sputtering)이란 발생된 플라즈마를 영구자석에서 발생하는 자속(flux)에 의해 집진 ... (direct current, DC)일 경우를 직류스퍼터링법(DC sputtering methode)라 하며 일반적으로 전도체의 sputtering에 사용된다. 절연체와 같은 부도체 ... II. RF-Magnetron Sputter를 이용한박막 증착 원리 이해신소재공학부1. PVD 증착방식인 Sputtering의 원리에 대한 이해가. Sputtering의 원리s

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| 리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.07.21

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85화합물 반도체 공정(유전막 증착)

) 고진공이 아니므로 불순물 증착Sputtering의 특징Sputtering의 종류DC 스퍼터링 RF 스퍼터링 Magnetron 스퍼터링 그 밖의 스퍼터링 - 3극 스퍼터링 ... - Unbalanced magnetron 스퍼터링 - 반응성 스퍼터링DC 스퍼터링DC 스퍼터링은 diode 스퍼터링 또는 cathode 스퍼터링이라고 하며, 증착 속도는 기체의 압력 ... puttering이 보완함 높은 Ar압력이 필요하다. 증착속도가 느리다 - Magnetron Sputtering이 보완함RF 스퍼터링RF 스퍼터링 장치는 절연체의 박막을 증착시키기 위해서

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 43페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.02.18

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재공실 - sputtering 결과보고서

RF Magnetron Sputter를 이용한 박막 증착 원리 이해1. sputter의 각 부분의 명칭과 기능sputter system 위 그림처럼 크게 6개의 파트로 나눌 수 ... 하는 펌프는 없기 때문에 어느펌프를 연결할 것인가 하는 펌프간의 조합도 매우 중요하다.2) Power supply : 음극에 전원을 공급하는 장이치다. 직류 또는 교류로 사용이 가능 ... 를 공급하는 창치이다. MFC(Mass Flow Controllor)가 가스종류 한 개당 하나씩 달려있다.8)Chthode shield : 장착된 타겟에서 원하는 부위만 스퍼터링

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| 리포트 | 3페이지 | 2,000원 | 등록일 2013.10.29

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스퍼터링 프로세스 & 스퍼터링의 응용분야

스퍼터링의 경우는 막 형성속도가 진공증착에 비해 매우 느려 제한된 용도에만 이용되어 왔다. 그러나 1974년 경 타깃에 자석을 내장한 마그네트론 스퍼터링이 개발되어 고속막 형성이 가능 ... ◎ 스퍼터링의 Process (in-line)◎ 스퍼터링의 특성에 대한 비교◎ 스퍼터링의 응용분야스퍼터링은 기판온도가 낮아도 치밀하고 밀착성이 좋은 박막을 얻을 수 있고, 고융점 ... 합금이나 절연재료에도 적용할 수 있다. 또한 증발속도가 서로 다른 원소로 구성된 합금 타깃도 거의 그 조성대로 기판에 코팅할 수 있는 이점이 있지만, 종래 직류 및 고주파

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 2페이지 | 1,500원 | 등록일 2011.04.25

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