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"절연막방전)" 검색결과 1-20 / 96건

  • DBD(Dielectric Barrier Discharges)에서 진공 플라즈마 발생에 대한 해석적 연구 (An Analysis of Vacuum Plasma Phenomena in DBD(Dielectric Barrier Discharges))
    한국정밀공학회 신명수, 차성훈, 김성영, 이혜진, 김종봉, 김종호
    논문 | 7페이지 | 무료 | 등록일 2025.04.26 | 수정일 2025.05.14
  • 반도체 전공정 면접 대비 자료
    상수: 진공 유전율 1로 봤을 때 상대적인 유전율 비(sio2 경우 3.9) -정의: 전기장 인가시 다른 극성 전하 생기는 물질 -활용: low k는 절연막, high k는 커패시터 ... 안되는 Cu같은 물질 패터닝시 사용. Sio2 etch 하고 ~ Etch- Poly Si etch(STI), dielectric etch(절연막, nand에서 contact ... 쉽고 uniformity 우수. AP, LP, PE. 주로 절연막 형성 시 이용. -전해도금: Cu gap fill시 사용. 속도 빠름, 치밀하게 형성 가능 AP, LP, PE
    자기소개서 | 16페이지 | 3,500원 | 등록일 2024.10.01 | 수정일 2024.10.15
  • 인하대학교 집적회로공정(전자공학과) DRAM레포트
    )3efilling을 용이하게 하기 위해 하부로 갈수록 wall의 폭은 좁아져야 하며 소자의 작동 시에 형성되는 절연박막의 항복 전압이상으로 전기장이 형성되어 절연막이 파괴되는 것 ... 으로 쉽게 빠져 나옴으로써 sidewall에 부착되지 않도록 하여야 한다.3.2 절연막 형성Trench side wall에 절연막을 형성한다. 보통 절연막의 두께는 200A ... (암스트롱)이다. 절연막형성보다 중요한 과정이 절연막 전후로 진행되는 세척작업이다. 일반적으로 Etching작업시에는 부산물이 Trench 측벽에 부착되어 절연막의 형성을 방해하는 경우
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 6페이지 | 4,900원 | 등록일 2021.09.26
  • 중앙대 교양 반도체 이해하기 pbl 보고서
    하고 있는 이유에 대해 조사해보세요.A. 반도체 소자의 집적화로 인해 박막의 두께가 점점 얇아짐에 따라 게이트 절연막으로 쓰인 기존의 SiO2 박막이 한계에 도달하게 되 ... 면, 건설 중장비에 구비된 배터리가 방전되어 발생하는 시동 불능 현상을 방지하기 위한 것으로 배터리의 시동성을 높일 수 있는 건설 중장비의 배터리 방전 방지 시스템에 관한 발명 ... 입니다. 해당 과정에서 배터리 방전 방지 시스템에 반도체가 사용됩니다.이처럼 반도체는 여러분야에서 필수적으로 사용되는 것을 알 수 있습니다. 건설업에서는 반도체의 성능이 좋으면 좋
    리포트 | 13페이지 | 2,500원 | 등록일 2024.03.22
  • High-K 물질을 적용한 반도체 기술 실험 레포트
    지 않고 밀려나서 공핍층을 형성하게 된다. 이 때의 전기적인 공핍층이 절연막의 역할을 해서 전기적인 절연 두께가 증가한다. 따라서 캐패시턴스를 로 나타낼 수 있으며, 이를 공핍 ... 에 전류를 넣어준 다음 캐패시터가 완충될 때까지 Word 선을 열어두어 캐패시터를 방전(0을 씀)시킨다. [5],[6]출처[1] Hyperlink "http://blog.daum
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 5페이지 | 2,500원 | 등록일 2021.11.08
  • 판매자 표지 자료 표지
    삼성전자 및 SK하이닉스 반도체 면접 대비용 용어집 (이거 하나로 남들과 차별화 가능합니다)
    화하거나 단차를 줄이는 것.- Coating : 감광막, 절연막 또는 금속막을 Wafer 표면에 균일하게 증착하는(바르는) 과정.- Complementary Circuit : 상보 ... 가 Leak 등으로 방전되기 때문에, 수시로 Data를 읽어 내어 Rewrite하는 조작(Refresh)이 필요하며, 그것을 위한 회로가 필요함. ROM에서는 Transistor
    자기소개서 | 28페이지 | 3,000원 | 등록일 2024.02.25 | 수정일 2024.05.13
  • 차세대 반도체 메모리 소자와 ReRAM의 메커니즘과 응용 실험 레포트
    과 금속/ 절연막 계면의 트랩에 의한 저항 변화 특성 설명이다. 트랩 모델은 다시 크게 계면 트랩에 전하의 충전과 방전에 의한 일렉트로닉 스위칭 모델과 저항 물질 내의 트랩 호핑 ... 의 마지막 단계에서와 같이 Tix++xe- ⇒ Ti이 형성되어 다시 금속 필라멘트 브리지가 형성되며, 소자가 고 저항 상태에서 저저항 상태가 되었음을 보여준다. 두 번째는 절연막
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 7페이지 | 2,500원 | 등록일 2021.11.08
  • 반도체공학대학원 면접
    합니다. 또 다른 방법으로는 버퍼 삽입(Buffer Insertion), 논리 최소화, 파이프라이닝 등이 있습니다. 최신 공정에서는 저유전율(Low-k) 절연막을 사용해 배선 커패시턴스 ... )을 줄이는 방법에는 어떤 것이 있나요? 게이트 지연은 트랜지스터가 스위칭하는 데 필요한 시간으로, 커패시턴스 충방전 속도에 의해 결정됩니다. 이를 줄이기 위해서는 공급 전압을 높이
    Non-Ai HUMAN
    | 자기소개서 | 19페이지 | 5,800원 | 등록일 2025.11.10
  • 판매자 표지 자료 표지
    반도체 용어집
    하다.MOS FET (MOS field effect transistor)전체효과 transister중에서 절연막을 산화막으로 형성시킨 절연 gate형 FET의 대표적인 것이다.MOS ... 생각할 수 있다.즉, 영역 Ⅰ은 양극(陽極: anode)이 음극(陰極: cathode)에 대하여 매우 큰 음전압(陰電壓)을 갖게 되어 그 진공용기 속에서 공간을 통하여 방전 ... 을 일으키거나 용기의 벽(壁)을 따라 방전하는 전압파괴 영역이다. Ⅱ는 음극으로부터 방출된 열전자(熱電子)에 의한 전자 전류가 누설전류(漏洩電流: leakage current)에 대해
    리포트 | 31페이지 | 1,000원 | 등록일 2023.02.05
  • 신소재에너지 ) 1) 택한 물질의 정의 및 특징 2) 종류 3) 리튬이온전지에 사용되는 각 소재의 종류 및 특징 4) 리튬이온전지에 사용될때 필요한 요구 물성 5) 요구 물성과 물질의 구조와 성질과의 관계에서 도출된
    소재이다. 음극재는 양극재에서 나오는 리튬 이온을 산화·환원 반응을 통해 에너지를 저장하거나 방출하는 역할을 한다. 분리막은 양극과 음극이 접촉하지 않도록 분리하는 절연막으로 쇼트 ... 현상을 방지한다. 전해액은 양극과 음극 사이의 리튬 이온 이동을 도와주는 매개체로 배터리 충·방전의 핵심이 되는 소재이다.4. 리튬이온전지에 사용될때 필요한 요구 물성양극재
    리포트 | 6페이지 | 3,000원 | 등록일 2024.01.19
  • 판매자 표지 자료 표지
    2025년상반기 SK하이닉스 대졸신입공채 면접예상문제(총60문제)및해답
    용 반도체 시장에서 요구되는 신뢰성 확보 기술은?해답:고온·고습·진동 등 극한 환경에서의 동작 보장, 고품질 절연막, ESD 보호 회로, 수명 예측 기술, 가혹 조건 테스트, 공정 ... 을 360도 감싸는 구조장점: FinFET보다 채널 제어 능력이 더욱 향상되어 성능 및 전력 효율 향상반도체 공정에서 발생하는 정전기 방전(ESD)의 메커니즘을 설명하고, ESD
    자기소개서 | 17페이지 | 4,000원 | 등록일 2025.04.30
  • 판매자 표지 자료 표지
    CNT 이론적 배경 및 물성
    으로 반도체(Si, GaAs, SiC), 절연막(SiO2, Si3N4), 금속박막(W, AI), 유기박막 등의 박막을 형성하는 대표적인 방법으로 알려져 있으며 고품질의 고성능 고체 ... CVD ? 플라즈마 화학 기상 증착법에 의한 합성법플라즈마 방식은 두 전극 사이에 인가되는 직류 또는 고주파 전계에 의하여 반응가스를 글로우 방전시키는 방법이다. 일반적으로 플라즈마 ... CVD에서 반응가스 방전에 사용하는 전원은 DC, RF(13.56 MHz), Microwave(2.47 GHz)로 구분할 수 있다. 그림 26은 플라즈마 CVD 장치에 대한 대표적인
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 11페이지 | 2,000원 | 등록일 2022.06.10
  • 신경계 질환의 개요, 두부손상과 척수손상의 병태생리와 병인
    , 시상핵, 시상하부, 기저신경절-근육활동의 조절과 통합)과 백질(내층, 신경흥분 전달통로),전두엽(수의적 운동, 전전두영역-자율신경기능과 관련)?두정엽(감각, 인식, 식별)?측두엽 ... . 섬세한 운동, 균형, 위치감각 조절② 뇌의 보호구조(1) 뇌막 : 대뇌와 척수 지지?보호, 영양과 혈액 공급 통로. 경막, 거미막, 연막으로 구성. (거미막과 연막 사이 공간 ... 되지 않은 과다방전으로 발생. 반복적인 발작이 특징. 전신발작/부분발작. 원발성(특발성)/속발성(후천성).3. 만성퇴행성질환(Chronic Degenerative Disorders
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2021.06.08
  • 화학 증착법(CVD)에 대한 조사[정의, 원리, 응용, 특성, 종류 등]
    은 소자 내의 층간 절연막으로 사용되는 PSG나 BPSG 등이 APCVD(atmospheric CVD)법에 의해 대기압에서 증착되며, 반도체 박막의 경우는 IC내 트랜지스터의 게이트 층 ... 3N4 박막과 금속 배선층간의 절연막인 SiO2 박막 등이 PECVD(plasma CVD)법에 의해 증착된다.- 최근에는 이제까지 주로 PVD법에 의해 증착되었던 금속층들(예 ... Line에 Damage를 주어 제품 불량이 초래됨.6.3.4.PECVD의 주요 형성 박막① SiO2 : 층간 절연막(IMD, ILD)- 디램의 최하층에 로직트랜지스터 및 저장트랜지스터
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 12페이지 | 1,000원 | 등록일 2017.01.06
  • 캡스톤디자인 SiC 상세설계보고서
    있습니다. 문턱전압이 이와 같이 양의 방향으로 이동하는 이유는 전자가 터널링에 의해 절연막으로 이동해서 양의 전하가 중성화되면서 이동하는 것입니다. 반대로 음의 전압, 전류 ... 를 가한다면 절연막으로 부터 전자들이 빠져나가 음의 방향으로 이동하는 것입니다.문턱전압의 변화를 통해 STRESS가 가해지는지, 어떻게 가해야하는지, 방향성을 가지고 다양한 측정법을 실험 ... 한 SiC니다.상온 정전압 스트레스 전, 후 및 24시간 동안 방전 뒤 측정된 전달 특성상온 정전류 스트레스 전, 후 및 24시간 동안 방전 뒤 측정된 전달 특성참고 : 참고 : 위 두
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    | 리포트 | 22페이지 | 10,000원 | 등록일 2019.06.24
  • 무기공업화학 기말고사 정리
    (물, 산소)와 열에너지를 공급하여 절연막 등 다양한 용도로 사용되는 SiO2막을 형성하는 공정이며 이는 공정 시에 발생하는 불순물로부터 표면을 보호한다. 반응식은 다음과 같 ... 되고, 방전시 리튬이온이 음극에서 양극으로 이동해 전류를 생성한다.3. 1차전지, 2차전지 연료전지에 대해 비교, 설명하라.1차전지는 충방전이 안되는 일회성으로 쓰이는 전지로 알칼리전지 ... 는 충/방전이 가능해 여러번 재사용 가능한 전지이다. 방전은 1차전지와 같은 방향으로 진행되지만 그 반응이 가역적이라 역반응을 통해 다시 전기를 화학 에너지로 저장할 수 있다.연료
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 14페이지 | 3,000원 | 등록일 2020.02.23
  • 판매자 표지 자료 표지
    [기초공학실험]Cu film의 전기적 특성 분석 실험
    target은 열전도성이 좋지 않아 열충격에 약하다.- 제한된 증착 속도로 증착 ⇒ 금속 target을 반응성 증착으로 절연막 형성- 생성된 막이 target의 조성과 반드시 일치 ... Discharge가 형성된다. 이러한 글로우 방전(Glow Discharge)을 이용하여 Ion을 형성하고, 이를 전자기장으로 가속하여 타겟 물질인 고체 표면에 충돌시킨다. 이때 내부의 원자 ... 정도되는 진공 내의 두 개의 전극 간에 고전압을 걸어주었을 때, 양전극에 생기는 방전현상] 튀어나온 secondary electron이 Ar과 충돌해서 ionization시켜서Ar
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    | 리포트 | 8페이지 | 3,200원 | 등록일 2019.09.02 | 수정일 2020.08.10
  • MOCVD법 PPT 자료
    을 증가 시켜 커패시턴스를 유지시 킴 . 하지만 256Mb DRAM 과 같이 고용량에서는 비유전율이 큰 물질을 커패시터 절연막으로 사용 해 플레이너 (planar) 구조나 스택 ... 는데 커패시터라는 부품은 전기를 충전 / 방전 하는 부품인데 , 이를 이용하여 , 0,1 를 구분함 . 전기가 충전되었을 때 1 , 전기가 방전되었을 때 0 * FRAM
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    | 리포트 | 23페이지 | 2,000원 | 등록일 2018.06.05
  • 조합논리 해석 및 설계 논리 게이트
    는 경우 파괴될 가능성이 있다.그 파괴의 경우에는 전압에 의한 것과 전력에 의한 것으로 나눌 수 있다. 전압파괴의 전형적인 것으로는 MOS 트랜지스터 산화막 등의 절연막에서의 절연 ... 하는 물체의 표면에 축적되는 것이라 표면전도율이 정전기 전하의 이동에 큰 영향을 미친다.대표적인 정전전압의 예를 다음에 보인다.정전기가 방전할 때에 그 방전 경로에 반도체 IC가 있 ... 파괴가 있으며, 전력파괴의 경우 반도체 소자 내부에서 정전기의 방전에 의한 전력소비가 생겨 그 부분이 열로 녹아서 파괴되는 것을 말한다.따라서 CMOS는 정전기에 약하므로 사용하지
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 24페이지 | 4,000원 | 등록일 2017.12.31
  • 인하대 공업화학실험 패터닝 예비 보고서
    deposition)을 통해 기체 간의 화학반응으로 형성된 입자들을 웨이퍼 표면에 증착시켜 전도성 막이나 절연막을 형성시킨다.리조그래피(Lithography): 웨이퍼 표면을 세척 후 ... 식각 선택도 계산실험 이론플라즈마 (Plasma) 란? : 빛을 내는 부분이 진공상태의 방전으로 진행될 때, 전극으로부터 일정 거리 떨어진 위치에서는 자유전자와 이온핵이 거의 일정
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2018.09.25
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2025년 12월 02일 화요일
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- 작별인사 독후감