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"이온주입공정" 검색결과 21-40 / 1,896건

  • 워드파일 한미약품 면접 예상 질문 답변-QC,QA 품질
    (이동상이 통과하는 관의 기포가 펌프 작동을 방해할 수 있음) 인젝터는 시료를 주입하는 장치입니다. 주입 방법은 자동 주입과 수동 주입이 있습니다. ... 이온 교환 크로마토그래피는 분석물이 전하를 가지고 있을 때, 이 반대 전하로 대전된 고정상을 이용해 이온결합을 유도하여 분리하는 방식이며 크기 배제 크로마토그래피는 고정상 물질 표면과 ... 이온 교환 크로마토그래피(Ion Exchange Chromatography) 4.
    자기소개서 | 4페이지 | 5,000원 | 등록일 2023.05.06 | 수정일 2024.04.01
  • 한글파일 독서록 쉽게 배우는 반도체 프로세스 저자 사토준이치 독서감상문 요약 쓰기 삼성전자 대만 TSMC
    그리고 대응하는 여러 가지 이온 주입 기술이 존재한다. 이온 주입 후 실리콘 웨이퍼 내의 실리콘 결정격자는 주입이온에 의해 데미지를 받고 있다. ... 전공정은 세정, 이온 주입 및 열처리, 리소그래피, 에칭, 성막, 평탄화의 프로세스로 이루어진다. ... 주입이온도 올바른 위치의 격자점에서 배치되어야 하고 이것이 결정 회복 열처리라고 한다.
    리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2023.07.10
  • 한글파일 방송통신대_토양학_1. 토양 입자의 전하 두가지 (영구전하, 가변전하)를 설명하시오. 2. 토양 중 질소 순환을 구성하는 과정(작용)을 다섯 가지 이상 적고 각각을 설명하시오. 3. 오염토양 복원 방법을 다섯 가지 이상 적고 각각을 설명하시오. (1)
    토양정화는 주입공정을 통해서 추출액을 이동시킴으로써 수행된다. 추출액은 지하 대수층으로부터 제거되고 재순환된다. ... 따라서 이를 보완하기 위해서 포화대 내에 공기를 주입하는 Air sparging 기술을 결합시키는 공정이 개발되었다. ... 다른 외부의 이온과 치환되어 있는 현상을 의미한다.
    방송통신대 | 6페이지 | 3,000원 | 등록일 2022.07.07
  • 한글파일 반도체공정 기말정리
    RTA (Rapid Thermal Annealing) : 이온주입공정을 하면 높은 운동에너지로 실리콘 내부를 때리므로 실리콘 원자가 원자위치에서 벗어나서 lattice를 손상시킬 수 ... 이온 주입 장비를 이용해 입자를 가속시키고 이온을 플라즈마 상태로 만들어 전기장을 이용하여 필요한 이온을 추출한다. 그리고 자기장을 가해 원하는 이온만을 다시 뽑아 낸다. ... 이온은 가속기를 통해 속도를 가지게 되고 중간에 전기장을 다시 걸어 중성원자는 직진하고 이온은 약간 휘게 되면서 웨이퍼에 원하는 이온주입되도록 한다. 1.
    리포트 | 4페이지 | 2,500원 | 등록일 2022.10.22
  • 한글파일 고려대학교 일반대학원 화공생명공학과 연구계획서
    위한 직렬 모의 이동층 공정의 처리량 및 용매 사용 수준을 개선하기 위한 최적화 연구, Retro Diels? ... NOx 저감 시스템 개발 연구, 비수지상 Mg 금속 배터리에 대한 마그네슘 장식을 갖춘 3차원 전도성 지지체의 손쉬운 합성 연구, 해수 내 염소산염 및 과염소산염 형성에서 OCl-주입과 ... 연구계획서 저는 고려대학교 대학원 화공생명공학과 소속 연구실에 들어가서 경질 탄소 양극의 리튬 및 나트륨 이온 저장 재검토 연구, 조 갈락토올리고당으로부터 갈락토트리오스를 회수하기
    자기소개서 | 1페이지 | 3,800원 | 등록일 2023.09.28
  • 워드파일 film deposition issue
    PECVD는 gas를 주입하고 전기장을 걸어줘 플라즈마 상태로 바꾸고 이온화 된 기체들이 화학반응을 통해 증착되는 방식이다. ... ALD는 precursor와 reactant를 주입하는 cycle을 통해 증착하는 공정이다. ... 이후 열을 가하며 전기장을 걸어주면 로 이온화 되고, 두 전극 사이에 플라즈마가 발생한다.
    리포트 | 4페이지 | 2,000원 | 등록일 2022.11.13
  • 한글파일 반도체 박막 증착 공정의 분류 보고서 (3P)
    또한, 이를 활용한 대다수의 반도체 제조공정은 크게 1) 웨이퍼 제조공정 ?2) 산화 공정 ?3) 포토 공정 ?4) 식각 공정 ?5) 박막 증착 공정(이온주입) ? ... 이어서 PECVD 공정은 chamber에 target 가스를 주입하고 RF나 DC를 공급해 plasma(0.01%)를 발생시켜 발생한 이온을 박막에 증착하는 공정이다. ... 마지막으로 Sputtering 공법은 진공상태의 chamber에 Ar과 같은 가스를 주입해 안정화를 유도한 뒤 RF(절연체)나 DC(금속)를 공급해 Plasma를 발생시켜 이온을 생성하고
    리포트 | 3페이지 | 3,000원 | 등록일 2022.03.14
  • 워드파일 CMOS 제조 공정 실험 레포트(예비,결과)
    이온 주입법(ion implantation)은 반도체에 불순물을 주입하여 부분적으로 n-type이나 p-type 반도체로 만들어주는 방법인데, 원하는 원자량을 갖는 이온을 가속화 시켜서 ... 정확하게 불순물을 주입할 수 있다는 장점이 있고, 이 때 이온 주입에 의해서 파괴된 결정구조를 열처리 과정을 통해서 복원시킨다. ... 에칭 방법에 따라서 플라즈마 에칭, 스퍼터 에칭으로 나눌 수 있다. [1],[2] 다음은 반도체 내에 도핑을 시켜서 n웰이나 p웰을 형성해야 하는데, 도핑 방법에는 이온 주입법과 확산법이
    리포트 | 6페이지 | 2,500원 | 등록일 2021.11.08
  • 한글파일 진공공학 스퍼터링 과제
    Sputtering Sputtering(스퍼터링)이란 반도체 제조 공정에서 박막을 형성하기 위해 사용되는 플라즈마를 이용하는 박막 형성 공정이다. ... 이 장치를 통해 주입되는 기체는 1sccm단위로 주입되는데 이는 1분에 1큐빅센치 부피의 기체가 주입됨을 말한다. ... 위쪽에 파워서플라이와 음극을 연결한 선과 함께 냉각을 위한 냉각수 가 흐르는 부분을 합쳐 Gun이라고 하는 부분이 존재하고 있고 그림의 오른쪽에는 추가적인 가스가 필요한 경우 가스를 주입하는
    리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2022.06.03
  • 워드파일 중앙대 교양 반도체 이해하기 pbl 보고서
    이온 주입 장비의 질량분석기에서 이온 소스에서 방출된 다양한 양이온들 중 원하는 이온만 선별해내는 과정을 좀더 자세하게 조사해보세요. ... 이온 주입 과정에서 원자나 분자로부터 이온을 생성합니다. 생성된 이온들은 다양한 에너지를 가지며, 이를 질량 가속기에 입력합니다. ... A. rie 공정은 플라즈마 생성과 함께 화학적 반응과 이온 충돌이 결합된 공정입니다.
    리포트 | 13페이지 | 2,500원 | 등록일 2024.03.22
  • 파일확장자 A+ / 조직공학 레포트
    제거• 다음 과정인 박막공정은 증착공정이온주입 공정을 진행한다. ... -증착 공정은 회로 간의 구분과 연결, 보호 역할을 하는 박막을 만드는 과정-또한 이론주입 공정은 반도체가 전기적인 특성을 갖도록 만드는 과정• 금속배선공정은 반도체 회로에 전기적 ... • 반도체 공정은 1. 웨이퍼 제조, 2. 산화 공정, 3. 포토공정, 4. 식각공정, 5. 박막공정, 6. 금속배선 테스트(eds 공정) 7.
    리포트 | 9페이지 | 2,500원 | 등록일 2023.10.10
  • 한글파일 PLED소자제작 A+ 레포트 건국대학교 고분자재료과학
    다양한 파장의 빛을 방출할 수 있다. - 전자 수송층(ETL: Electron Transfer layer 전자주입층의 전자를 유기발광층까지 전달하는 층이다. - 전자 주입층(EIL: ... 이것에 의해 천연수에 포함된 나트륨 ·칼슘 등 양이온과, 염소이온 ·황산이온 등 음이온이 제거된다. ... 보통 이온교환수지가 사용되며, 수소형 강한 산성 양이온교환수지와 수산형 약한 염기성 음이온교환수지를 병용해서 만든다.
    리포트 | 28페이지 | 2,000원 | 등록일 2023.06.03
  • 한글파일 반도체 공정 기말고사 족보 (문제)
    이온주입법에 대하여 마스크 물질에 대하여 설명하고 차이점을 적으시오 이온주입법에서 채널링, 격자 손상에 대해서 설명하시오 굉장히 얇은층의 도핑을 하려고 할 때 어떻게 해야 하는지 적으시오 ... (격자손상을 회복하기 위한 공정포함 자세하게 서술) 증착공정에서 chemical 한 방법과 physical 한 방법에 대해서 차이점을 설명하시오 CVD 공정에 대하여 설명하고 단점을 ... 이때 일반적인 저항과 시트저항의 차이를 설명하시오 플라즈마를 이용한 증착공정, 에칭공정, 측정방법등 각각 3가지에 대해 설명하시오.
    시험자료 | 1페이지 | 1,500원 | 등록일 2022.05.16
  • 한글파일 용수및하폐수처리) 1. 생물학적 처리에 대한 다음에 답하라. Glucose를 이용하여 질산성 질소를 탈질화하는 탈질반응에 대한 산화환원식을 완성하고 이때 발생하는 깁스 자유에너지 값이 얼마인지 말하라. 할인자료
    콜로이드의 제거 방식에는 콜로이드와 반대 전하를 나타내는 이온(응집제)을 주입해 콜로이드 주변 이온층의 두께를 줄이고, 인력을 높여 입자의 크기를 확장하는 ‘이중층의 슬러지가 발생하지 ... 활성슬러지 공정은 하수에 공기를 주입한 후 발생하는 부유 입자를 통해 유기물을 제거하는 공정이며, ‘활성슬러지’란 이 부유 입자가 미생물이 활성화되면서 발생하는 것이고, 슬러지(sludge ... 따라서 ‘파과점 염소 주입법’에서는 소독이 필요한 폐수 속의 모든 물질이 결합할 수 있는 염소의 양(파과점) 이상으로 염소를 충분히 주입하며, 이 경우 반응물인 염소의 양이 매우 많아
    방송통신대 | 8페이지 | 5,000원 (5%↓) 4750원 | 등록일 2022.02.27
  • 워드파일 반도체확산공정연구원지원 - 1분 자기소개 - 직무중심의 삼성전자 우수 면접 답변
    소자공정연구원을 중심으로 사진현상, 식각, 이온주입, 박막, 세정 및 연마공정연구원과 긴밀한 공동 연구를 통해 최적의 확산 공정특성을 보유한 소자회로 배선구조 및 특성을 개발하는 실습을 ... 인턴 시절 담당 대리께서 생산계획을 수립하는 방법과 공정설계와 공정편성에 관하여 설명해 주었습니다. ... 이어서 작업계획을 수립하여 표준작업관리와 공정품질 관리를 행하는 시범 및 설비일상관리와 설비보전관리 및 공정지표 관리, 공정개선과 설비자산관리 방법도 대략이나마 맛보게 해 주었 습니다
    자기소개서 | 2페이지 | 3,000원 | 등록일 2020.06.21
  • 파워포인트파일 에폭시 안정성 및 공정검증 &유기태양전지
    검증방안 1) 항목 선정 ※ 자체시험 가능 항목선정 ( 당사 장비보유 ) - 유리전이온도 : 에폭시 경화정도 ( 가교도 ) 확인 (DSC) - 실리카 충진율 : 에폭시 레진 , 하드너 ... 평가 1) 유리전이온도 평균 = 126.59 표준편차 σ = 2.22 Max =132.73 Min = 120.80 하한 규격 (LSL) = 128 ℃ Cp = -0.211842 Cpk ... 및 기계적 오차 고려하여 최적 충진율 선정 3) 현 공정 파악 - 시험시편 : 154kV PMJ 절연통 주입구 (Φ70) 가공시편 ( 워터젯 절단 , 1T) - 시험 횟수 : 총
    리포트 | 41페이지 | 3,000원 | 등록일 2023.11.22 | 수정일 2023.11.28
  • 파워포인트파일 NMP 공장 설계 고려 사항
    이를 방지하기 위해 업계에서는 KOH, NaOH 등의 알칼리 염을 미량 주입함 . ... NMP 재생 설비 고려 사항 NMP 재생 공정 주요 설비 및 고려 사항 정제탑 전술된 바와 같이 , 회수 대상인 NMP 와 불순물인 물 , 유기 불순물 , 금속 이온 간 비점 차가 ... 이렇게 회수된 NMP 는 주로 물 ( 약 20 ~ 40 wt%) 과 기타 유기 불순물 및 금속 이온이 미량 함유되어 있음 .
    리포트 | 5페이지 | 1,500원 | 등록일 2023.06.06 | 수정일 2023.06.21
  • 워드파일 스퍼터링(Sputtering) 이론레포트
    빔 Sputtering Sputtering 공정에 Ar 가스와 반응성 가스인 산소를 동시에 주입해 증착 하는 기법으로, 보조 이온 빔 Sputtering에 의해 제조된 금속 산화물 ... 증착 속도가 기존 Sputtering에 비해 비약적으로 향상되고(증착 속도가 떨어지는 Sputtering의 단점을 보완), 기판이 충돌하는 전자 수가 적어지므로 Sputtering 공정 ... 김영종, “Mg 합금소재에 이온플레이팅한 Zn 박막의 전기화학적 특성.” 석사학위, 한국해양대학교 대학원, 2004.
    리포트 | 3페이지 | 1,500원 | 등록일 2023.05.21
  • 한글파일 이화여자대학교 일반대학원 화공신소재공학전공 학업계획서
    저는 또한 신축성이 향상된 은나노와이어 기반의 신축성 투명전극 및 Haacke의 성능지수 연구, 정전기적으로 부상된 방울의 콜로이드 결정화에 대한 실시간 모니터링 연구, 전류 주입을 ... 건식 공정 연구, 생의학 연구 및 치료 응용을 위한 고급 3D 이미징 및 오가노이드 바이오프린팅 연구, 95kWp 태양광 발전 시스템에서 달팽이 길로 인한 전력 손실 영향 분석 연구 ... Si 태양전지의 점화 온도를 낮추는 방법 연구, 코발트-철 셀레나이드 나노결정을 이용한 3D 하이브리드 환원 그래핀 산화물-탄소 나노튜브 복합 미세구의 에어로졸 보조 합성 칼륨 이온
    자기소개서 | 2페이지 | 3,800원 | 등록일 2024.04.22
  • 워드파일 DB 하이텍 양산개발 직무 22년 하반기 면접 공부 자료(반도체 면접 자료)
    포토 공정에서 중요한 요 주어 성형하는 방식 유리섬유: Drawing 공정 - 용융된 유리를 좁은 틈을 이용하여 뽑아내어 냉각시키는 방식 원리 - 유리전이온도: 고분자의 물질이 온도에 ... 조절, 소스와 드레인, 게이트가 겹치는 부분을 없애는 방법으로 개선 가능 3) Hot Carrier Injection Effect Carrier가 게이트 전압에 의해 산화막으로 주입되어 ... 라디컬은 등방성의 성질을 띠지만, 결합력이 강한 벽면보다는 양이온의 공격으로 결합력이 약화된 바닥 면을 구성하는 분자들이 더 쉽게 라디칼에 포획돼 새로운 화합물로 변화면서 하방 식각이
    자기소개서 | 12페이지 | 5,000원 | 등록일 2024.03.28
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