단국대 반도체 공정 구용서교수님 과제

목차

1. DI Water
2. Class
3. ASR-P와 SIMS
4. Oxide thickness measurement
5. RTP
6. 유전율 조사
7. α-Si
8. SEM, TEM
9. Line stepper
10. EUV란?

본문내용

1. DI Water
A. 사전적 의미로는 de ionized water의 준말으로 한국말로는 탈이온수 혹은 정제수라고 한다.

B. DI water를 반도체 공정에서 사용하는 이유는 일반 생수는 정수된 물이라고 해도 그 속에 각종 미생물, 이온, 미네랄 성분들이 소량 남아있게 되는데 그것이 공정에 영향을 끼치기 때문이다.

C. 제조방법
i. 증류
ii. 활성탄흡착
iii. 이온교환
iv. 역삼투
v. UV Sterilizer

D. 일반적으로 정제된 물을 ‘증류수’라고 부르는 것이 일반적이지만, DI water와 일반 증류수는 차이가 있다. 일반 증류수는 1차증류수라고 하는데, 물을 끓여서 수증기로 만들었다가 수증기를 식혀 모아 물속의 불순물을 제거하는 방식이지다. DI water는 3차증류수라고 하는데, 양이온, 염기성 이온교환수지를 이용하여 이온을 최대한 제거해준다고 한다. 이렇게 하면 물속에 있는 극 미량의 이온들까지 모두 제거할 수 있게된다고 한다.

2. Class
A. Class란 청정도를 의미한다. 반도체에서의 class는 클린룸의 먼지양에따라 1, 10, 100, 1000 이렇게 나뉘게 된다.
B. 단위 입방 cm안의 먼지 입자 개수
C. 반도체 공정 전반에서는 보통 class 100이하의 클린룸에서 공정이 진행된다.

참고자료

· 없음