[인하대 A+ 실험보고서] 공업화학실험 패터닝 예비보고서

최초 등록일
2019.03.05
최종 저작일
2018.03
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인하대 화학공학과 공업화학실험 보고서입니다.
공업화학실험 학점은 A+를 받았습니다.
예비보고서의 경우는 책이나 온라인 상에 있는 내용을 저만의 언어로 바꾸어 정리하는 방식으로 작성하였습니다.
기존의 족보와는 다르기 때문에 내용은 그대로 복붙하여도 괜찮을지 모르나 되도록 참고하는 방향으로 사용하는 것이 좋을 것 같습니다.

목차

1. 실험 목적
2. 실험 방법
3. 실험 이론
4. 참고 문헌

본문내용

1. 실험 목적
반도체의 제조공정의 일부분인 패터닝을 실험함으로써 반도체와 그 제조공정의 원리와 구조를 이해하며 반도체 제조공정이 단순히 기계적 과정이 아닌 화학공학자를 필요로 하는 과정임을 깨닫는다. 또한 공정과정에 변수를 주었을 때 나타나는 차이에 대해 고찰한다.

2. 실험 방법
1) 산화막(SiO2)의 패터닝(patterning) - Lithography 공정 (조교가 수행)
2) 패턴된 산화막의 표면 색깔과 패턴 모양 관찰 - 광학 현미경 사용
3) 패턴된 산화막을 반응성 이온 식각장치를 사용하여 적절한 식각가스와 파워를 선택하여 식각 실험을 진행한다.
4) 식각된 산화막의 표면의 색깔과 패턴 모양 관찰 - 광학 현미경 사용
5) 마스크 패턴의 제거 (O2 plasma ashing) - 플라즈마 애싱장치를 이용하여 산소 플라즈마를 발생시켜서 적절한 조건에서 마스크 패턴을 제거한다.
6) 마스크 패턴을 제거한 산화막의 표면 색깔과 패턴 모양 관찰 - 광학 현미경 사용
7) 패턴의 높이를 측정하여, 식각 속도 및 식각 선택도 계산

참고 자료

반도체공학, 류장렬, 청문각, 2017.
알기쉬운 반도체 공정, 박욱동, 대영사, 2007.
반도체 공정기술, 황호정, 생능출판사, 2005.
플라즈마 식각기술, 염근영, 고양, 2012.

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