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RF Magnetron Sputtering에 의한 금속간화합물 TiAI 모재위의 AI-21Ti-23Cr 고온내산화코팅

(주)코리아스칼라
최초 등록일
2016.04.02
최종 저작일
1996.07
10페이지/파일확장자 어도비 PDF
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서지정보

발행기관 : 한국재료학회 수록지정보 : 한국재료학회지 / 6권 / 7호
저자명 : 박상욱, 박정용, 이호년, 오명훈, 위당문

한국어 초록

Ti-48AI(at.%) 모재위에 RF magnetron sputtering을 이용하여 AI-21Ti-23Cr(at.%) 조성의 박막을 코팅하였다. RF power 200W, 증착압력 0.8Pa, 증착온도 573k에서 증착된 시편의 가장 우수한 고온재산화성을 나타내었다. 573K에서 증착된 AI-21Ti-23Cr 코팅층은 증착시에는 비정질을 형성하나 산화시험동안 결정화가 진행되며, 표면에는 치밀한 Al2O3층이 형성되었다. 573K에서 코팅된 시편에 대하여 1073K, 1173K 및 1273K에서 100시간동안 등온산화시험을 실시하였다. 무게증량곡선은 모든 온도에서 parabolic law를 따르는 안정된 산화거동을 보였으며 이와같은 산화특성은 표면에 치밀한 Al2O3층이 형성되었기 때문인 것으로 판단된다. 1273K에서 산화시험 후 코팅층의 기지는 고온산화에 따른 AI원자의 소모와 모재로부터의 Ti원자의 확산에 의해 TiAICr상을 형성하였으며, 무게증량은 낮은 온도에 비해 다소 크게 증가하는 경향을 나타내었다.

참고 자료

없음

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