흡착원자의 거동에 대한 연구동향과 미래

소개글

흡착원자의 거동에 대한 연구동향과 미래에 대한 논문입니다. (한양대학교에서 A+받은 레포트입니다.)

목차

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본문내용

“흡착원자의 거동에 대한 연구동향과 미래”

◎초록
-지난 2차 과제에서 ()표면에서의 흡착원자의 거동에 대한 몇 가지의 연구들을 살펴보았다. 본 논문에서는 이에 착안하여 흡착원자 즉 원자증착에 대한 기술의 동향을 살펴본다. 나노 스케일에 접근하여 u/Pt()에서의 templating 기법을 적용시켰고, 표면에 He이나 r 이온 스퍼터닝(sputtering)을 이용하여 미래의 연구기술에 큰 도움이 되고 있다.
또한 이 연구를 좀 더 깊게 응용하여 기존의 PVD & CVD와는 다른 LD(tomic Layer Deposition)이라는 원자 층 증착기술을 탄생시켰다. 이는 기존의 CVD증착 방법으로는 해결할 수 없을 기술을 대체하게 될 것이고 메모리나 로직 소자를 생산하는데 가장 중요한 기술이 될 것이다. 현재 삼성전자와 하이닉스 반도체가 LD기술을 적용한 나노 급 메모리 반도체 개발을 활발히 진행시키고 있다.


◎서론
-단결정 표면에서 나노스케일의 주기적인 구조(periodic structure)를 만드는 것은 기초연구를 위해서도 매우 흥미로운 것이지만, 나노 기술을 산업화하고 여러 가지 응용을 가능하게 하기 위해서도 꼭 필요한 연구이다. 지금까지 이루어진 나노스케일의 주기적인 구조는 이들을 “Template"으로 이용하여 흡착된 원자와 분자들을 나노 구조로 구성하여 리소그래피(lithography) 기술로는 만들 수 없는 크기의 구조를 만드는 것이었다. 이러한 연구에서 u()의 미사 면이 나노구조를 위한 template로 많이 이용되었는데, 이는 u()의 잘 알려진 바와 같은 매우 높은 선택적인 흡착특성 덕분이다.()
또한 최근 반도체 소자의 고집적화에 따라 박막 제조 공정이 나노 급 이하로 미세화 되고 있으며, 원자 층의 박막조절이 가능한 공정개발이 요구되고 있다. 기존의 PVD방법은 고진공하에서 불순물의 개재 없이 고 순도의 박막을 쉽게 증착할 수 있다는 장점이 있지만 trench 구조에서 측면과 밑면이 증착된 막 두께가 달라지는

참고 자료

KISTI 『글로벌동향브리핑(GTB)』 / 2008-06-4
http://www.nanotech.re.kr
J. Phys. Chem. C / 2009 / Template-Directed Molecular Nanostructures on the g/Pt() Dislocation Network
Nano Letter / 2008 / Fabrication of a Well-Ordered Nanohole rray Stable at Room Temperature
KISTI 『글로벌동향브리핑(GTB)』 / 2008-06-4
김양도 / 부산대학교 재료공학부 교수 / 원자 층 증착 기술의 특성 및 전망
Technology 특집 / High-k/LD기술 / 2005-09
박세환 / 한국과학기술정보연구원 / 초소형 나노 구조물 제조 기술
김양도 / 한국재료학회 / 산소 플라즈마를 이용하여 원거리 플라즈마 원자 층 증착 법
http://www.newscientist.com/article/dn6768-atomic-construction-yields-punchier-power-store.html