자성나노의 특허동향
- 최초 등록일
- 2007.12.03
- 최종 저작일
- 2007.10
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소개글
자성나노의 특허동향
목차
1. 한국, 미국, 일본의 특허출원 현황
2. 한국, 미국, 일본의 연도별 특허출원 현황
3. 출원인별 특허 동향
3-1. 주요3국(한,미,일)의 다 출원인별 특허 동향
3-2. 한국의 출원인별 특허 동향
4. 기술 분류별 특허 동향
본문내용
2. 한국, 미국, 일본의 연도별 특허출원 현황
<그림>은 주요 3국인 한국, 미국, 일본의 출원 량을 연도별로 도시화한 것이다. 그
림과 같이 나노 나성소자의 연도별 출원 추이를 보면 1985년 듀퐁사의 Carcia 그룹에
서 나노 자성 소자의 수직 자기이방성과, 1988년 프랑스 Paris-Sud 대학의 Fert 그룹
에서 거대 자기저항 현상(GMR) 의 발표 이후인 80년대 말부터 출원이 있었으나, 본격적
인 출원은 나노기술의 상업화가 입증된 90년대 말부터 이루어진 것을 볼 수 있었다. 미
국과 일본은 90년대 초부터 꾸준히 출원양이 증가한 반면, 한국은 90년대 말에 들어서
야 본격적인 관심과 연구가 시작되었음을 알 수 있었다.
참고 자료
없음