포토리소그래피(Photolithography)

*영*

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최초 등록일: 2007.10.28
최종 저작일: 2007.10; 7페이지/ 한컴오피스; 가격 1,500원

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포토리소그래피(Photolithography) 에 관하여 조사한 자료입니다
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1. Photolithography란?
ㆍ정의
2. Photolithography의 세부 공정 및 재료
TFT부분
3. Photoresist 의 정의
4. Photo Resist의요구특성.
① Photoproperties
② Thermal Stability
③ Adhesion
④ Etch Resistance
5. Photo resist의분류
① Negative Photo Resist
② Positive Photo Resist
6. Photoresist재료

본문내용

1. Photolithography란?
ㆍ정의
Photolithography 공정은 어떤 특정한 화학약품(Photo resist)이 빛을 받으면 화학반응을 일으켜서 성질이 변화하는 원리를 이용하여, 얻고자 하는 pattern의 mask를 사용하여 빛을 선택적으로 PR에 조사함으로써 mask의 pattern과 동일한 pattern을 형성시키는 공정이다. Photolithography 공정은 일반사진의 film에 해당하는 photo resist를 도포하는 PR 도포공정, mask를 이용하여 선택적으로 빛을 조사하는 노광공정, 다음에 현상액을 이용하여 빛을 받은 부분의 PR을 제거하여 pattern을 형성시키는 현상공정으로 구성된다.
Photolithography 공정은 모든 공정 step이 각종 particle에 대해 매우 취약하고, 이로 인한 pattern 불량이 전체 panel의 불량을 유발하므로, 청정한 환경과 재료 및 장비의 관리가 보다 중요한 공정이며, 향후 TFT 제작공정의 고정밀, 대면적화에 따라서 그 중요성이 더욱 커지는 공정이다.

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